发布时间：2024-05-27 17:49:26 - 更新时间：2024年06月29日 15:22
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本标准规定了氨的技术要求，试验方法以及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于半导体工业，氮化硅、氮化镓的化学气相淀积，也可用于硅或氧化硅的氮化
Gas for electronic industry.Ammonia
本标准规定了电子工业用气体氨的技术要求、试验方法、检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于以工业氨为原料，采用吸附、精馏方法提纯制得的电子工业用气体氨。 分子式：NH3。 相对分子质量：17.031（按2005年国际相对原子质量
Gas for electronic industry—Ammonia
本标准规定了电子工业用气体高纯氨的技术要求，试验方法，检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于瓶装高纯氨。该产品主要用于半导体工业，氮化硅的化学气相淀积，也可用于硅或氧化硅的氮化。 分子式：NH3 相对分子质量：17.031（按1989年国际相对
Gases for electronic industry. High purity ammonia
本标准规定了电子工业用气体氮技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以深冷法从空气中提取的气态和液态氮，以及经电化学方法得到的氮。它们在超大规模集成电路制造中用作保护、吹扫、覆盖、加压，化学气相淀积等
Gas for electronic industry.Nitrogen
本标准规定了氩的技术要求、试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以深冷却法从空气、合成氨尾气中提取的液态和气态氩以及经纯化方法得到的氩。 氩用于系统的吹扫、保护和增压，它还可以用于化学汽相淀积、溅射、等离子及活性离子刻蚀剂和退火等不同工艺中
Gas for electronic industry.Argon
本标准规定了电子工业用氧的技术要求，试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以深冷法、电解法提取的气态或液态氧，以及经纯化方法得到的氧。他们主要用于二氧化硅化学气相淀积，用作氧化源和生产高纯水的反应剂，用于等离子体蚀刻和剥离、光导纤维
Gas for electronic industry.Oxygen
本标准规定了电子工业用气体5N氯化氢的技术要求、检验方法、检验规则以及包装、标志、运输、储存、充装、分装和安全要求。 本标准适用于以工业氯化氢为原料经净化制得的瓶装液化氯化氢。 氯化氢主要用于微电子工业半导体器件生产中单晶硅片气相抛光、外延和基座腐蚀工艺。也可用于硬质合金和玻璃表面处理、医药
Gas for electronic industry.5N hydrogen chloride
本标准规定了电子工业用氩的技术要求、试验方法和包装、标志。 本标准适用于以深冷法从空气、合成氨尾气中提取的液态氩和气态氩。电子工业用氩气用于系统的吹扫、保护和增压，它还可用于化学气相淀积、溅射，等离子及活性离子 刻蚀剂和退火等不同工艺中。 分子式：Ar 相对分子质量
Gases for electronic industry--Argon
本标准规定了氦的技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以深冷法从天然气、空气和工厂弛放气中提取的气态和液态氦，以及经纯化方法得到的氦。它们在半导体制造中用作清洗气、加压气、也用作载气和保护气等
Gas for electronic industry.Helium
本标准规定了电子工业用液态和气态氮的技术要求、检验方法以及包装、标志等，适用于从分离空气或氨还原法制得的氮，在超大规模集成电路制造中用作净化、覆盖、保护、加压，也用于化学气相淀积时的载气等。 氮气化学性质不活泼，不可燃，是一种窒息性气体。 分子式：N2。 相对分子
Gases for electronic industry--Nitrogen
本标准规定了电子工业用氢的技术要求、试验方法和包装、标志、安全等。 本标准适用于以工业氢为原料经纯化制取的钢瓶装氢气。氢主要被用来提供还原气氛，作为外延工艺的载气以及等离子体蚀刻剂的配气原料。 分子式：H2 相对分子质量：2.016（按1991年国际相对原子质量
Gases for electronic industry--Hydrogen
本标准规定了电子工业用气体氧和散装液态氧的技术要求，检验方法，检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 电子工业用氧主要用于二氧化硅化学气相淀积，用作氧化源和生产高纯水的反应剂，用于等离子体蚀刻和剥离。也可用于光导纤维。 分子式：O2 相对分子质量：31.999
Gases for electronic industry. Oxygen
本标准规定了电子工业用氦气的技术要求、检验方法以及包装、标志等，适用于以深冷法从天然气、空气或工厂弛放气提取的高纯度氦，在半导体及其器件生产中用作清洗气、加压气，也用作载气和保护气等。 分子式：He 相对分子质量：4.003（按1991年国际相对原子质量
Gases for electronic industry--Helium
本标准规定了电子工业用氢技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以氢气为原料经净化制取的瓶装、集装格装和管道输送的电子工业用氢气。它们主要被用来提供还原气氛，作为外延工艺的载气以及等离子体蚀刻剂的配气原料
Gas for electronic industry.Hydrogen
本标准规定了锗烷的技术要求、试验方法、标志、包装、贮运和安全。 本标准适用于氯化锗还原、电解氧化锗的硫酸溶液、锗镁合金与盐酸反应等方法得到的锗烷产品。 它用于化学试剂、制取高纯度锗、化学气相淀积、扩散、非晶硅、外延、离子注入等领域。 分子式：GeH4。 相对分子质量：76.662（按
Gas for electronic industry.Germane
本标准规定了氨的技术要求，试验方法以及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于半导体工业，氮化硅、氮化镓的化学气相淀积，也可用于硅或氧化硅的氮化
Gas for electronic industry.Ammonia
本标准规定了电子工业用气体氨的技术要求、试验方法、检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于以工业氨为原料，采用吸附、精馏方法提纯制得的电子工业用气体氨。 分子式：NH3。 相对分子质量：17.031（按2005年国际相对原子质量
Gas for electronic industry—Ammonia
本标准规定了电子工业用气体高纯氨的技术要求，试验方法，检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于瓶装高纯氨。该产品主要用于半导体工业，氮化硅的化学气相淀积，也可用于硅或氧化硅的氮化。 分子式：NH3 相对分子质量：17.031（按1989年国际相对
Gases for electronic industry. High purity ammonia
本标准规定了电子工业用气体氮技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以深冷法从空气中提取的气态和液态氮，以及经电化学方法得到的氮。它们在超大规模集成电路制造中用作保护、吹扫、覆盖、加压，化学气相淀积等
Gas for electronic industry.Nitrogen
本标准规定了氩的技术要求、试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以深冷却法从空气、合成氨尾气中提取的液态和气态氩以及经纯化方法得到的氩。 氩用于系统的吹扫、保护和增压，它还可以用于化学汽相淀积、溅射、等离子及活性离子刻蚀剂和退火等不同工艺中
Gas for electronic industry.Argon
本标准规定了电子工业用氧的技术要求，试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以深冷法、电解法提取的气态或液态氧，以及经纯化方法得到的氧。他们主要用于二氧化硅化学气相淀积，用作氧化源和生产高纯水的反应剂，用于等离子体蚀刻和剥离、光导纤维
Gas for electronic industry.Oxygen
本标准规定了电子工业用气体5N氯化氢的技术要求、检验方法、检验规则以及包装、标志、运输、储存、充装、分装和安全要求。 本标准适用于以工业氯化氢为原料经净化制得的瓶装液化氯化氢。 氯化氢主要用于微电子工业半导体器件生产中单晶硅片气相抛光、外延和基座腐蚀工艺。也可用于硬质合金和玻璃表面处理、医药
Gas for electronic industry.5N hydrogen chloride
本标准规定了电子工业用氩的技术要求、试验方法和包装、标志。 本标准适用于以深冷法从空气、合成氨尾气中提取的液态氩和气态氩。电子工业用氩气用于系统的吹扫、保护和增压，它还可用于化学气相淀积、溅射，等离子及活性离子 刻蚀剂和退火等不同工艺中。 分子式：Ar 相对分子质量
Gases for electronic industry--Argon
本标准规定了氦的技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以深冷法从天然气、空气和工厂弛放气中提取的气态和液态氦，以及经纯化方法得到的氦。它们在半导体制造中用作清洗气、加压气、也用作载气和保护气等
Gas for electronic industry.Helium
本标准规定了电子工业用液态和气态氮的技术要求、检验方法以及包装、标志等，适用于从分离空气或氨还原法制得的氮，在超大规模集成电路制造中用作净化、覆盖、保护、加压，也用于化学气相淀积时的载气等。 氮气化学性质不活泼，不可燃，是一种窒息性气体。 分子式：N2。 相对分子
Gases for electronic industry--Nitrogen
本标准规定了电子工业用氢的技术要求、试验方法和包装、标志、安全等。 本标准适用于以工业氢为原料经纯化制取的钢瓶装氢气。氢主要被用来提供还原气氛，作为外延工艺的载气以及等离子体蚀刻剂的配气原料。 分子式：H2 相对分子质量：2.016（按1991年国际相对原子质量
Gases for electronic industry--Hydrogen
本标准规定了电子工业用气体氧和散装液态氧的技术要求，检验方法，检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 电子工业用氧主要用于二氧化硅化学气相淀积，用作氧化源和生产高纯水的反应剂，用于等离子体蚀刻和剥离。也可用于光导纤维。 分子式：O2 相对分子质量：31.999
Gases for electronic industry. Oxygen
本标准规定了电子工业用氦气的技术要求、检验方法以及包装、标志等，适用于以深冷法从天然气、空气或工厂弛放气提取的高纯度氦，在半导体及其器件生产中用作清洗气、加压气，也用作载气和保护气等。 分子式：He 相对分子质量：4.003（按1991年国际相对原子质量
Gases for electronic industry--Helium
本标准规定了电子工业用氢技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以氢气为原料经净化制取的瓶装、集装格装和管道输送的电子工业用氢气。它们主要被用来提供还原气氛，作为外延工艺的载气以及等离子体蚀刻剂的配气原料
Gas for electronic industry.Hydrogen
本标准规定了锗烷的技术要求、试验方法、标志、包装、贮运和安全。 本标准适用于氯化锗还原、电解氧化锗的硫酸溶液、锗镁合金与盐酸反应等方法得到的锗烷产品。 它用于化学试剂、制取高纯度锗、化学气相淀积、扩散、非晶硅、外延、离子注入等领域。 分子式：GeH4。 相对分子质量：76.662（按
Gas for electronic industry.Germane
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