发布时间：2024-05-27 17:49:26 - 更新时间：2024年06月29日 15:22
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Electronic grade high purity titanium
本标准规定了 7N 光电子级超纯氨的基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮运及安全要求和质量承诺。 本标准规定的产品氨适用于半导体工业，氮化硅、氮化镓的化学气相沉积，也可用于硅或氧化硅的氮化等生产工艺所使用的氨气。 分子式： NH3。 相对分
7N photoelectric class hyperpure ammonia
本标准规定了电子工业用高纯硝酸的分级、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书、订货单（或合同）内容及安全。 本标准适用于电子工业用高纯硝酸（以下简称高纯硝酸）。该产品主要应用于电子级多晶硅、液晶显示器件、集成电路和超大规模集成电路用硅片、芯片的清洗、蚀刻等
High-purity nitric acid for electronics industry
本文件规定了电子工业用高纯硫酸（以下简称“高纯硫酸”）的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及随行文件和订货单内容。 本文件适用于电子工业用高纯硫酸
High-purity sulfuric acid for electronic industry
High purity copper ring for electronic film
本标准规定了电子工业用气体高纯氨的技术要求，试验方法，检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于瓶装高纯氨。该产品主要用于半导体工业，氮化硅的化学气相淀积，也可用于硅或氧化硅的氮化。 分子式：NH3 相对分子质量：17.031（按1989年国际相对
Gases for electronic industry. High purity ammonia
本标准规定将高纯度水中之微量铜离子，经浓缩步骤后，以 CNS 5464 方法测定铜离子含量，适于浓度 0.01~8 ppb 之范围。有机铜及钳状铜（chelate copper）则不可用此法
Method of Test for Concentrating and Measuring Trace Quantities of Copper in High - Purity Water Used in the Electronics Industry
本标准规定了高纯氯的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输和储存。本标准适用于以工业液氯为原料,采用物理吸附等过程生产的高纯氯产品。该产品主要用于大规模集成电路、光导纤维、高温超导、平板显示器、太阳能等技术领域。分子式:Cl2。相对分子质量:70.90(按2009年国际相对原子质量
Gases for electronic industry.High purity chlorine
本标准规定了电子薄膜用高纯钴靶材(以下简称高纯钴靶)的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书及订货单(或合同)内容。 本标准适用于电子薄膜制造用的各类高纯钴靶
High-purity cobalt sputtering target used in electronic film
本标准规定了电子工业用气体高纯氯产品的技术要求、试验方法、检验规则1,11t乏包装、标志、运输及贮存和安全要求。 本标准适用于以工业液氯为原料，采用物理吸附等过程生产的高纯氯产品。该产品主要用于大规模集成电路、光导纤维、高温超导、铝加工等高新技术领域。 分子式：Cl2。 相对分子
Gases for electronic industry--High purity chlorine
本标准规定了电子工业用高纯钛酸钡的要求、采样、试验方法以及标志、包装、运输、贮存。 本标准适用于电子工业用高纯钛酸钡，该产品主要用于电子工业中作为制造非线性元件，介质放大器、电子计算机的记忆元件、微型电容器以及超声波发生器等部件的材料
High purity barium titanate for electronic industrial use
本标准规定了电子工业用高纯氢氟酸的分级、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书、订货单（或合同）内容及安全。 本标准适用于电子工业用高纯氢氟酸（以下简称高纯氢氟酸）。该产品主要应用于电子级多晶硅、液晶显示器、集成电路和超大规模集成电路用硅片、芯片的清洗、蚀刻等
High-purity hydrofluoric acid for electronics industry
本标准规定了电子工业用高纯钛酸钡的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存。 本标准适用于电子工业用高纯钛酸钡。该产品主要用于电子业中作为制造非线性元件、介质放大器、电子计算机的记忆元件、微型电容器以及超声波发生器等部件的材料
High purity barium titanate for electronic industrial use
High purity barium titanate for electronic industry
GB/T11446的本部分規定了屯子級水的級別‵技未指椋要求‵武酸方法和栓酸規則〝本部分适用于电子和半导体下业用高纯清洗用水
Electronic grade water
Electronic grade high purity titanium
本标准规定了 7N 光电子级超纯氨的基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮运及安全要求和质量承诺。 本标准规定的产品氨适用于半导体工业，氮化硅、氮化镓的化学气相沉积，也可用于硅或氧化硅的氮化等生产工艺所使用的氨气。 分子式： NH3。 相对分
7N photoelectric class hyperpure ammonia
本标准规定了电子工业用高纯硝酸的分级、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书、订货单（或合同）内容及安全。 本标准适用于电子工业用高纯硝酸（以下简称高纯硝酸）。该产品主要应用于电子级多晶硅、液晶显示器件、集成电路和超大规模集成电路用硅片、芯片的清洗、蚀刻等
High-purity nitric acid for electronics industry
本文件规定了电子工业用高纯硫酸（以下简称“高纯硫酸”）的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及随行文件和订货单内容。 本文件适用于电子工业用高纯硫酸
High-purity sulfuric acid for electronic industry
High purity copper ring for electronic film
本标准规定了电子工业用气体高纯氨的技术要求，试验方法，检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于瓶装高纯氨。该产品主要用于半导体工业，氮化硅的化学气相淀积，也可用于硅或氧化硅的氮化。 分子式：NH3 相对分子质量：17.031（按1989年国际相对
Gases for electronic industry. High purity ammonia
本标准规定将高纯度水中之微量铜离子，经浓缩步骤后，以 CNS 5464 方法测定铜离子含量，适于浓度 0.01~8 ppb 之范围。有机铜及钳状铜（chelate copper）则不可用此法
Method of Test for Concentrating and Measuring Trace Quantities of Copper in High - Purity Water Used in the Electronics Industry
本标准规定了高纯氯的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输和储存。本标准适用于以工业液氯为原料,采用物理吸附等过程生产的高纯氯产品。该产品主要用于大规模集成电路、光导纤维、高温超导、平板显示器、太阳能等技术领域。分子式:Cl2。相对分子质量:70.90(按2009年国际相对原子质量
Gases for electronic industry.High purity chlorine
本标准规定了电子薄膜用高纯钴靶材(以下简称高纯钴靶)的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书及订货单(或合同)内容。 本标准适用于电子薄膜制造用的各类高纯钴靶
High-purity cobalt sputtering target used in electronic film
本标准规定了电子工业用气体高纯氯产品的技术要求、试验方法、检验规则1,11t乏包装、标志、运输及贮存和安全要求。 本标准适用于以工业液氯为原料，采用物理吸附等过程生产的高纯氯产品。该产品主要用于大规模集成电路、光导纤维、高温超导、铝加工等高新技术领域。 分子式：Cl2。 相对分子
Gases for electronic industry--High purity chlorine
本标准规定了电子工业用高纯钛酸钡的要求、采样、试验方法以及标志、包装、运输、贮存。 本标准适用于电子工业用高纯钛酸钡，该产品主要用于电子工业中作为制造非线性元件，介质放大器、电子计算机的记忆元件、微型电容器以及超声波发生器等部件的材料
High purity barium titanate for electronic industrial use
本标准规定了电子工业用高纯氢氟酸的分级、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书、订货单（或合同）内容及安全。 本标准适用于电子工业用高纯氢氟酸（以下简称高纯氢氟酸）。该产品主要应用于电子级多晶硅、液晶显示器、集成电路和超大规模集成电路用硅片、芯片的清洗、蚀刻等
High-purity hydrofluoric acid for electronics industry
本标准规定了电子工业用高纯钛酸钡的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存。 本标准适用于电子工业用高纯钛酸钡。该产品主要用于电子业中作为制造非线性元件、介质放大器、电子计算机的记忆元件、微型电容器以及超声波发生器等部件的材料
High purity barium titanate for electronic industrial use
High purity barium titanate for electronic industry
GB/T11446的本部分規定了屯子級水的級別‵技未指椋要求‵武酸方法和栓酸規則〝本部分适用于电子和半导体下业用高纯清洗用水
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