高纯铝检测

YS/T 275-2008 高纯铝

本标准规定了高纯铝的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、订货单（或合同）内容。 本标准适用于以99.99%铝为原料，采用凝固提纯法等方法生产的高纯铝

High purity aluminium

YS/T 275-2000 高纯铝

High purity aluminum

KS D 6706-2018 高纯铝

High purity aluminium foils

DB41/T 1677-2018 高纯铝粉

KS D 6706-1992 高纯铝箔

이 규격은 압연한 고순도 알루미늄 박에 대하여 규정한다

High purity aluminium foils

YS/T 275-2018 高纯铝锭

KS D 8522-2009 高纯铝粉末的测定方法

이 표준은 파인 세라믹스용 고순도 알루미나 분말의 분석 방법에 대하여 규정한다

Methods for determination of fine alumina powder

JIS H4170-1991 高纯度铝箔

この規格は，圧延した高純度アルミニウムはく(以下，はくという。)について規定する

High purity aluminium foils

GB/T 29658-2013 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材

本标准规定了电子薄膜制备用高纯铝及铝合金靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、存贮、订货单(或合同)等内容。本标准适用于电子薄膜用各类高纯铝及铝合金溅射靶材(以下简称铝靶

High-purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film

GJB 6473-2008 航空用高纯铝合金挤压管材规范

本规范对规定了航空用高纯铝合金挤压管材的要求、质量保证规定、交货准备等。 本规范适用于航空用高纯铝合金挤压管材（以下简称管材

Specification for higher pure aluminum alloy extruded tubes for aviation

AIR FORCE MIL-DTL-83488 D-1999 高纯度铝涂层

This notice should be filed in front of MIL-P-70507(AR) dated 28 December 1984 MIL-P-70507(AR) dated 28 December 1984 with Amendment 5, dated 16

COATING, ALUMINUM, HIGH PURITY

T/ICMTIA TG0011-2022 集成电路用高纯铝及铝合金溅射靶材

本文件规定了集成电路用高纯铝及铝合金溅射靶材的技术要求，检测方法，包装与运输及安全的要求。 本文件适用于集成电路制造用的高纯铝及铝合金靶材

JIS H4170 AMD 1-2006 高纯度铝箔（修改件1）

JIS H 4170: 1991を,次のように改正する

High purity aluminium foils (Amendment 1)

YS/T 244.2-2008 高纯铝化学分析方法 第2部分:钼蓝萃取光度法测定硅含量

本部分规定了高纯铝中铁含量的测定方法。 本部分适用于高纯铝中硅含量的测定。测定范围：0.00010%～0.00080

Chemical analysis methods of high purity aluminum.Part 2: Determination of silicon content by extraction-molybdenum blue photonEetrie method

YS/T 871-2013 高纯铝化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法

本标准规定了采用高质量分辨率辉光放电质谱法测定高纯铝中痕量元素的测试方法、本标准适用于高纯铝中痕量元素含量的测定、各元素测定范围为5.0×10^-7%~1.0×10<上标-3

Chemical analysis of high purity aluminium.Determination of trace impurities.Glow discharge mass spectrometry

YS/T 275-2008 高纯铝

本标准规定了高纯铝的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、订货单（或合同）内容。 本标准适用于以99.99%铝为原料，采用凝固提纯法等方法生产的高纯铝

High purity aluminium

YS/T 275-2000 高纯铝

High purity aluminum

KS D 6706-2018 高纯铝

High purity aluminium foils

DB41/T 1677-2018 高纯铝粉

KS D 6706-1992 高纯铝箔

이 규격은 압연한 고순도 알루미늄 박에 대하여 규정한다

High purity aluminium foils

YS/T 275-2018 高纯铝锭

KS D 8522-2009 高纯铝粉末的测定方法

이 표준은 파인 세라믹스용 고순도 알루미나 분말의 분석 방법에 대하여 규정한다

Methods for determination of fine alumina powder

JIS H4170-1991 高纯度铝箔

この規格は，圧延した高純度アルミニウムはく(以下，はくという。)について規定する

High purity aluminium foils

GB/T 29658-2013 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材

本标准规定了电子薄膜制备用高纯铝及铝合金靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、存贮、订货单(或合同)等内容。本标准适用于电子薄膜用各类高纯铝及铝合金溅射靶材(以下简称铝靶

High-purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film

GJB 6473-2008 航空用高纯铝合金挤压管材规范

本规范对规定了航空用高纯铝合金挤压管材的要求、质量保证规定、交货准备等。 本规范适用于航空用高纯铝合金挤压管材（以下简称管材

Specification for higher pure aluminum alloy extruded tubes for aviation

AIR FORCE MIL-DTL-83488 D-1999 高纯度铝涂层

This notice should be filed in front of MIL-P-70507(AR) dated 28 December 1984 MIL-P-70507(AR) dated 28 December 1984 with Amendment 5, dated 16

COATING, ALUMINUM, HIGH PURITY

T/ICMTIA TG0011-2022 集成电路用高纯铝及铝合金溅射靶材

本文件规定了集成电路用高纯铝及铝合金溅射靶材的技术要求，检测方法，包装与运输及安全的要求。 本文件适用于集成电路制造用的高纯铝及铝合金靶材

JIS H4170 AMD 1-2006 高纯度铝箔（修改件1）

JIS H 4170: 1991を,次のように改正する

High purity aluminium foils (Amendment 1)

YS/T 244.2-2008 高纯铝化学分析方法 第2部分:钼蓝萃取光度法测定硅含量

本部分规定了高纯铝中铁含量的测定方法。 本部分适用于高纯铝中硅含量的测定。测定范围：0.00010%～0.00080

Chemical analysis methods of high purity aluminum.Part 2: Determination of silicon content by extraction-molybdenum blue photonEetrie method

YS/T 871-2013 高纯铝化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法

本标准规定了采用高质量分辨率辉光放电质谱法测定高纯铝中痕量元素的测试方法、本标准适用于高纯铝中痕量元素含量的测定、各元素测定范围为5.0×10^-7%~1.0×10<上标-3

Chemical analysis of high purity aluminium.Determination of trace impurities.Glow discharge mass spectrometry