发布时间:2023-05-16 14:32:17
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Gas for electronic industry—Trifluoromethane
本标准规定了三氟碘甲烷的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、贮运及安全信息的要求。 本标准适用于以工业级三氟碘甲烷为原料,经精馏提纯制得的三氟碘甲烷产品。该产品主要用于半导体气相沉积加工腔室的清洗或等离子体的刻蚀
本标准规定了八氟丙烷的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运和安全。 本标准适用于六氟丙烯或七氟丙烷氟化制备,并通过精馏、吸附、催化等工艺提纯的八氟丙烷产品,以及碳和氟直接反应法合成的八氟丙烷产品。它在电子工业等离子蚀刻工艺中作为蚀刻气体或清洗气体。 分子式:C3F8。 相对分子
Gas for electronic industry.Perfluoropropane
Gas for electronic industry—Hexafluoroethane
本标准适用于由四氯化碳和氟化氢以液相催化法制得的一氟三氯甲烷。其优级品、一级品用作致冷剂;合格品用作发泡剂等
Trichloromonofluoromethane for industrial uses
本标准规定了瓶装电子工业用气体——三氟化氮的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输、储存和安全。 本标准适用于电子工业用三氟化氮。它主要用作电子工业中等离子体工艺等离子体刻蚀剂和化学气相沉积的清洗剂。 分子式:NF3。 分子量:71.001 9(按2001年国际相对原子量
Gases for electronic industry.Nitrogen trifluoride
本标准规定了三氟化硼产品的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以氟硼酸钠为原料,采用热分解法制得的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂。 分子式:BF3 相对分子质量:67.805(按1989年国际相对原子质量
Gases for electronic industry. Boron trifluoride
本标准规定了电子工业用三氟化硼的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于以氟气和硼单质 为原料,采用直接化合的方法制得并经过纯化制取的三氟化硼;和以氟硼酸钠为原料热分解法制得并经过纯化制取的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂
Gases for electronic industry.Boron trifluoride
Electronic specialty gas—Fluoromethane
本标准规定了锗烷的技术要求、试验方法、标志、包装、贮运和安全。 本标准适用于氯化锗还原、电解氧化锗的硫酸溶液、锗镁合金与盐酸反应等方法得到的锗烷产品。 它用于化学试剂、制取高纯度锗、化学气相淀积、扩散、非晶硅、外延、离子注入等领域。 分子式:GeH4。 相对分子质量:76.662(按
Gas for electronic industry.Germane
Fluoromethanes (trichloromonofluoromethane (FLON 11) Dichlorodifluoromethane (FLON 12) Mochlorodifluoromethane (FLON 22))
本文件规定了电气特气二氟甲烷的技术要求、检验规则、试验方法、标志、包装、运输贮存及安全信息的要求。 本文件适用于由工业用二氟甲烷提纯得到的电子特气二氟甲烷
本文件规定了三氟碘甲烷的技术要求、检验规则、试验方法、充装规则、包装标志、储运及安全要求。 本文件适用于以氟化物分解法制备的三氟碘甲烷
Iodotrifluoromethane
本文件规定了工业用二氟甲烷的基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存、安全和质量承诺。 本文件适用于二氯甲烷和氟化氢为原料,用气相法或液相法,在催化剂作用下反应、精馏而得二氟甲烷。 分子式:CH2F2 结构式: 相对分子质量:52.024(按 
Difluoromethane(HFC-32) for industrial use
Gas for electronic industry—Trifluoromethane
本标准规定了三氟碘甲烷的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、贮运及安全信息的要求。 本标准适用于以工业级三氟碘甲烷为原料,经精馏提纯制得的三氟碘甲烷产品。该产品主要用于半导体气相沉积加工腔室的清洗或等离子体的刻蚀
本标准规定了八氟丙烷的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运和安全。 本标准适用于六氟丙烯或七氟丙烷氟化制备,并通过精馏、吸附、催化等工艺提纯的八氟丙烷产品,以及碳和氟直接反应法合成的八氟丙烷产品。它在电子工业等离子蚀刻工艺中作为蚀刻气体或清洗气体。 分子式:C3F8。 相对分子
Gas for electronic industry.Perfluoropropane
Gas for electronic industry—Hexafluoroethane
本标准适用于由四氯化碳和氟化氢以液相催化法制得的一氟三氯甲烷。其优级品、一级品用作致冷剂;合格品用作发泡剂等
Trichloromonofluoromethane for industrial uses
本标准规定了瓶装电子工业用气体——三氟化氮的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输、储存和安全。 本标准适用于电子工业用三氟化氮。它主要用作电子工业中等离子体工艺等离子体刻蚀剂和化学气相沉积的清洗剂。 分子式:NF3。 分子量:71.001 9(按2001年国际相对原子量
Gases for electronic industry.Nitrogen trifluoride
本标准规定了三氟化硼产品的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以氟硼酸钠为原料,采用热分解法制得的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂。 分子式:BF3 相对分子质量:67.805(按1989年国际相对原子质量
Gases for electronic industry. Boron trifluoride
本标准规定了电子工业用三氟化硼的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于以氟气和硼单质 为原料,采用直接化合的方法制得并经过纯化制取的三氟化硼;和以氟硼酸钠为原料热分解法制得并经过纯化制取的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂
Gases for electronic industry.Boron trifluoride
Electronic specialty gas—Fluoromethane
本标准规定了锗烷的技术要求、试验方法、标志、包装、贮运和安全。 本标准适用于氯化锗还原、电解氧化锗的硫酸溶液、锗镁合金与盐酸反应等方法得到的锗烷产品。 它用于化学试剂、制取高纯度锗、化学气相淀积、扩散、非晶硅、外延、离子注入等领域。 分子式:GeH4。 相对分子质量:76.662(按
Gas for electronic industry.Germane
Fluoromethanes (trichloromonofluoromethane (FLON 11) Dichlorodifluoromethane (FLON 12) Mochlorodifluoromethane (FLON 22))
本文件规定了电气特气二氟甲烷的技术要求、检验规则、试验方法、标志、包装、运输贮存及安全信息的要求。 本文件适用于由工业用二氟甲烷提纯得到的电子特气二氟甲烷
本文件规定了三氟碘甲烷的技术要求、检验规则、试验方法、充装规则、包装标志、储运及安全要求。 本文件适用于以氟化物分解法制备的三氟碘甲烷
Iodotrifluoromethane
本文件规定了工业用二氟甲烷的基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存、安全和质量承诺。 本文件适用于二氯甲烷和氟化氢为原料,用气相法或液相法,在催化剂作用下反应、精馏而得二氟甲烷。 分子式:CH2F2 结构式: 相对分子质量:52.024(按 
Difluoromethane(HFC-32) for industrial use