发布时间:2024-05-27 17:49:26 - 更新时间:2024年06月29日 15:22
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1. 样品尺寸:垂直溅射样品最大直径5cm、斜溅射最大直径10cm;自行提供的靶材尺寸:直径6cm,厚度小于5mm;
2. 镀膜厚度小于几微米,纳米级别;
3. 具体试验要求请与技术顾问提前沟通,确认后再预约测试;
4. 如有其他疑问,请联系前期对接的技术顾问。
磁控溅射法是在高真空充入适量的氩气,在阴极(柱状靶或平面靶)和阳极(镀膜室壁)之间施加直流电压,在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电,使氩气发生电离。氩离子被阴极加速并轰击阴极靶表面,将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。通过更换不同材质的靶和控制不同的溅射时间,便可以获得不同材质和不同厚度的薄膜。
1. 样品尺寸:垂直溅射样品最大直径5cm、斜溅射最大直径10cm;自行提供的靶材尺寸:直径6cm,厚度小于5mm;
2. 镀膜厚度小于几微米,纳米级别;
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