GB/T 17874-2010 电子工业用气体 三氯化硼
本标准规定了三氯化硼的技术要求,试验方法以及包装标志、贮运及安全。 本标准适用于以粗制三氧化硼为原料,采用吸附、精馏等方法提纯制得的三氧化硼,主要用于半导体器件生产所用的扩散、离子注人、干法蚀刻等工艺。 分子式:BCl 。 相对分子质量:117.1691(按2007 年国际相对原子质量计算
Gases for electronic industry.Boron trichloride
GB/T 17874-1999 电子工业用气体 三氯化硼
本标准规定了电子工业用三氯化硼气体的要求、检验方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以粗制三氯化硼为原料，采用吸附、蒸馏的方法提纯制得的三氯化硼，主要用于电子工业硅半导体器件和集成电路生产所用的扩散、离子注入、干法蚀刻等工艺
Gases for electronic industry--Boron Trichloride
GB/T 14603-1993 电子工业用气体 三氟化硼
本标准规定了三氟化硼产品的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以氟硼酸钠为原料，采用热分解法制得的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂。 分子式：BF3 相对分子质量：67.805（按1989年国际相对原子质量
Gases for electronic industry. Boron trifluoride
GB/T 17874-2021 电子特气 三氯化硼
本文件规定了电子级三氯化硼的技术要求、检验规则、试验方法、标志、包装、运输、贮存及安全信息的要求。 本文件适用于以粗制三氯化硼为原料提纯制得的电子级三氯化硼
Electronic specialty gas—Boron trichloride
GB/T 14603-2009 电子工业用气体.三氟化硼
本标准规定了电子工业用三氟化硼的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于以氟气和硼单质 为原料，采用直接化合的方法制得并经过纯化制取的三氟化硼；和以氟硼酸钠为原料热分解法制得并经过纯化制取的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂
Gases for electronic industry.Boron trifluoride
T/ZSM 0004-2022 工业用三氯化硼
“技术要求”章规定了三氯化硼纯度、氯气含量、四氯化硅含量、碳酰氯含量、氯化氢含量的技术要求。 “试验方法”章结合工业用三氯化硼的检测实际，规定了三氯化硼的计算公式、以及氯气、四氯化硅、碳酰氯、氯化氢的测定方法。 “检验规则”章规定了工业用三氯化硼产品的检验项目、组批、采样、检验判定以及尾气处理的
Boron trichloride used for industry
GB/T 14602-2014 电子工业用气体 氯化氢
本标准规定了氯化氢的技术要求、试验方法、标志、包装、贮运及安全。本标准适用于以工业氯化氢为原料,采用纯化制得的氯化氢产品。该产品主要用于微电子工业中气相抛光、外延和刻蚀工艺,也可用于硬质合金、玻璃表面处理、医药中间体和精细化学品制造、科学研究等领域。分子式:HCl。相对分子质量:36.458(按
Gases for electronic industry.Hydrogen chloride
GB/T 14602-1993 电子工业用气体 氯化氢
本标准规定了氯化氢的技术要求、检验方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以氢、氯为原料合成的氯化氢和以工业氯化氢为原料经净化制得的瓶装液态氯化氢。 氯化氢主要用于电子工业，在集成电路生产中用于蚀刻、钝化、外延等工艺。也可用于金属冶炼、光导通讯和科学研究
Gases for electronic industry. Hydrogen chloride
GB/T 24469-2009 电子工业用气体.5N氯化氢
本标准规定了电子工业用气体5N氯化氢的技术要求、检验方法、检验规则以及包装、标志、运输、储存、充装、分装和安全要求。 本标准适用于以工业氯化氢为原料经净化制得的瓶装液化氯化氢。 氯化氢主要用于微电子工业半导体器件生产中单晶硅片气相抛光、外延和基座腐蚀工艺。也可用于硬质合金和玻璃表面处理、医药
Gas for electronic industry.5N hydrogen chloride
GB/T 21287-2007 电子工业用气体.三氟化氮
本标准规定了瓶装电子工业用气体——三氟化氮的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输、储存和安全。 本标准适用于电子工业用三氟化氮。它主要用作电子工业中等离子体工艺等离子体刻蚀剂和化学气相沉积的清洗剂。 分子式：NF3。 分子量：71.001 9（按2001年国际相对原子量
Gases for electronic industry.Nitrogen trifluoride
GB/T 18994-2014 电子工业用气体 高纯氯
本标准规定了高纯氯的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输和储存。本标准适用于以工业液氯为原料,采用物理吸附等过程生产的高纯氯产品。该产品主要用于大规模集成电路、光导纤维、高温超导、平板显示器、太阳能等技术领域。分子式:Cl2。相对分子质量:70.90(按2009年国际相对原子质量
Gases for electronic industry.High purity chlorine
GB/T 18994-2003 电子工业用气体 高纯氯
本标准规定了电子工业用气体高纯氯产品的技术要求、试验方法、检验规则1,11t乏包装、标志、运输及贮存和安全要求。 本标准适用于以工业液氯为原料，采用物理吸附等过程生产的高纯氯产品。该产品主要用于大规模集成电路、光导纤维、高温超导、铝加工等高新技术领域。 分子式：Cl2。 相对分子
Gases for electronic industry--High purity chlorine
HG/T 5551-2019 工业三氧化二硼（硼酐）
Industrial boron trioxide (boron anhydride)
GB/T 34085-2017 电子工业用气体 三氟甲烷
Gas for electronic industry—Trifluoromethane
HG/T 2970-2009 工业用三氯化磷
警告：工业用三氯化磷在湿空气中激烈发烟，遇水猛烈反应生成亚磷酸并放出氯化氢气体，遇热时分解成磷的氯化物和高毒的氧化物薄膜。 本标准规定了工业用三氯化磷的要求、采样、试验方法、检验规则、标志、标签、包装、运输、贮存、安全。 本标准适用于以黄磷与氯气合成法制得的工业用三氯化磷
Phosphorus trichloride for industrial use
GB/T 17874-2010 电子工业用气体 三氯化硼
本标准规定了三氯化硼的技术要求,试验方法以及包装标志、贮运及安全。 本标准适用于以粗制三氧化硼为原料,采用吸附、精馏等方法提纯制得的三氧化硼,主要用于半导体器件生产所用的扩散、离子注人、干法蚀刻等工艺。 分子式:BCl 。 相对分子质量:117.1691(按2007 年国际相对原子质量计算
Gases for electronic industry.Boron trichloride
GB/T 17874-1999 电子工业用气体 三氯化硼
本标准规定了电子工业用三氯化硼气体的要求、检验方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以粗制三氯化硼为原料，采用吸附、蒸馏的方法提纯制得的三氯化硼，主要用于电子工业硅半导体器件和集成电路生产所用的扩散、离子注入、干法蚀刻等工艺
Gases for electronic industry--Boron Trichloride
GB/T 14603-1993 电子工业用气体 三氟化硼
本标准规定了三氟化硼产品的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以氟硼酸钠为原料，采用热分解法制得的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂。 分子式：BF3 相对分子质量：67.805（按1989年国际相对原子质量
Gases for electronic industry. Boron trifluoride
GB/T 17874-2021 电子特气 三氯化硼
本文件规定了电子级三氯化硼的技术要求、检验规则、试验方法、标志、包装、运输、贮存及安全信息的要求。 本文件适用于以粗制三氯化硼为原料提纯制得的电子级三氯化硼
Electronic specialty gas—Boron trichloride
GB/T 14603-2009 电子工业用气体.三氟化硼
本标准规定了电子工业用三氟化硼的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于以氟气和硼单质 为原料，采用直接化合的方法制得并经过纯化制取的三氟化硼；和以氟硼酸钠为原料热分解法制得并经过纯化制取的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂
Gases for electronic industry.Boron trifluoride
T/ZSM 0004-2022 工业用三氯化硼
“技术要求”章规定了三氯化硼纯度、氯气含量、四氯化硅含量、碳酰氯含量、氯化氢含量的技术要求。 “试验方法”章结合工业用三氯化硼的检测实际，规定了三氯化硼的计算公式、以及氯气、四氯化硅、碳酰氯、氯化氢的测定方法。 “检验规则”章规定了工业用三氯化硼产品的检验项目、组批、采样、检验判定以及尾气处理的
Boron trichloride used for industry
GB/T 14602-2014 电子工业用气体 氯化氢
本标准规定了氯化氢的技术要求、试验方法、标志、包装、贮运及安全。本标准适用于以工业氯化氢为原料,采用纯化制得的氯化氢产品。该产品主要用于微电子工业中气相抛光、外延和刻蚀工艺,也可用于硬质合金、玻璃表面处理、医药中间体和精细化学品制造、科学研究等领域。分子式:HCl。相对分子质量:36.458(按
Gases for electronic industry.Hydrogen chloride
GB/T 14602-1993 电子工业用气体 氯化氢
本标准规定了氯化氢的技术要求、检验方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以氢、氯为原料合成的氯化氢和以工业氯化氢为原料经净化制得的瓶装液态氯化氢。 氯化氢主要用于电子工业，在集成电路生产中用于蚀刻、钝化、外延等工艺。也可用于金属冶炼、光导通讯和科学研究
Gases for electronic industry. Hydrogen chloride
GB/T 24469-2009 电子工业用气体.5N氯化氢
本标准规定了电子工业用气体5N氯化氢的技术要求、检验方法、检验规则以及包装、标志、运输、储存、充装、分装和安全要求。 本标准适用于以工业氯化氢为原料经净化制得的瓶装液化氯化氢。 氯化氢主要用于微电子工业半导体器件生产中单晶硅片气相抛光、外延和基座腐蚀工艺。也可用于硬质合金和玻璃表面处理、医药
Gas for electronic industry.5N hydrogen chloride
GB/T 21287-2007 电子工业用气体.三氟化氮
本标准规定了瓶装电子工业用气体——三氟化氮的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输、储存和安全。 本标准适用于电子工业用三氟化氮。它主要用作电子工业中等离子体工艺等离子体刻蚀剂和化学气相沉积的清洗剂。 分子式：NF3。 分子量：71.001 9（按2001年国际相对原子量
Gases for electronic industry.Nitrogen trifluoride
GB/T 18994-2014 电子工业用气体 高纯氯
本标准规定了高纯氯的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输和储存。本标准适用于以工业液氯为原料,采用物理吸附等过程生产的高纯氯产品。该产品主要用于大规模集成电路、光导纤维、高温超导、平板显示器、太阳能等技术领域。分子式:Cl2。相对分子质量:70.90(按2009年国际相对原子质量
Gases for electronic industry.High purity chlorine
GB/T 18994-2003 电子工业用气体 高纯氯
本标准规定了电子工业用气体高纯氯产品的技术要求、试验方法、检验规则1,11t乏包装、标志、运输及贮存和安全要求。 本标准适用于以工业液氯为原料，采用物理吸附等过程生产的高纯氯产品。该产品主要用于大规模集成电路、光导纤维、高温超导、铝加工等高新技术领域。 分子式：Cl2。 相对分子
Gases for electronic industry--High purity chlorine
HG/T 5551-2019 工业三氧化二硼（硼酐）
Industrial boron trioxide (boron anhydride)
GB/T 34085-2017 电子工业用气体 三氟甲烷
Gas for electronic industry—Trifluoromethane
HG/T 2970-2009 工业用三氯化磷
警告：工业用三氯化磷在湿空气中激烈发烟，遇水猛烈反应生成亚磷酸并放出氯化氢气体，遇热时分解成磷的氯化物和高毒的氧化物薄膜。 本标准规定了工业用三氯化磷的要求、采样、试验方法、检验规则、标志、标签、包装、运输、贮存、安全。 本标准适用于以黄磷与氯气合成法制得的工业用三氯化磷
Phosphorus trichloride for industrial use
编辑：北检院编辑部
