HG/T 3587-1999 电子工业用高纯钛酸钡
本标准规定了电子工业用高纯钛酸钡的要求、采样、试验方法以及标志、包装、运输、贮存。 本标准适用于电子工业用高纯钛酸钡，该产品主要用于电子工业中作为制造非线性元件，介质放大器、电子计算机的记忆元件、微型电容器以及超声波发生器等部件的材料
High purity barium titanate for electronic industrial use
HG/T 3587-2009 电子工业用高纯钛酸钡
本标准规定了电子工业用高纯钛酸钡的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存。 本标准适用于电子工业用高纯钛酸钡。该产品主要用于电子业中作为制造非线性元件、介质放大器、电子计算机的记忆元件、微型电容器以及超声波发生器等部件的材料
High purity barium titanate for electronic industrial use
HG/T 4695-2014 工业高纯碳酸钡
本标准规定了工业高纯碳酸钡的分型，要求，试验方法，检验规则，标志、标签，包装、运输和贮存。 本标准适用于工业高纯碳酸钡，该产品主要用于制造正温系数热敏电阻、积层电容、玻璃基板、中高压陶瓷电容、半导体电容，以及作为其他钡盐、发光材料、净水剂、磁性材料的原料
High purity barium carbonate for industrial use
T/CNIA 0063-2020 电子工业用高纯硝酸
本标准规定了电子工业用高纯硝酸的分级、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书、订货单（或合同）内容及安全。 本标准适用于电子工业用高纯硝酸（以下简称高纯硝酸）。该产品主要应用于电子级多晶硅、液晶显示器件、集成电路和超大规模集成电路用硅片、芯片的清洗、蚀刻等
High-purity nitric acid for electronics industry
T/CNIA 0121-2021 电子工业用高纯硫酸
本文件规定了电子工业用高纯硫酸（以下简称“高纯硫酸”）的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及随行文件和订货单内容。 本文件适用于电子工业用高纯硫酸
High-purity sulfuric acid for electronic industry
T/CNIA 0062-2020 电子工业用高纯氢氟酸
本标准规定了电子工业用高纯氢氟酸的分级、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书、订货单（或合同）内容及安全。 本标准适用于电子工业用高纯氢氟酸（以下简称高纯氢氟酸）。该产品主要应用于电子级多晶硅、液晶显示器、集成电路和超大规模集成电路用硅片、芯片的清洗、蚀刻等
High-purity hydrofluoric acid for electronics industry
EN ISO 21813:2022 精细陶瓷（高级陶瓷 高级工业陶瓷）高纯钛酸钡粉末化学分析方法
ISO 21813 specifies methods for the chemical analysis of fine high purity barium titanate powders used as the raw material for fine ceramics. ISO
Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics) - Methods for chemical analysis of high purity barium titanate powders (ISO 21813:2019)
ISO 21813:2019 精细陶瓷（高级陶瓷 高级工业陶瓷）高纯钛酸钡粉末化学分析方法
This document specifies methods for the chemical analysis of fine high purity barium titanate powders used as the raw material for fine ceramics
Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics) — Methods for chemical analysis of high purity barium titanate powders
DB52/T 795-2013 电子级高纯钛
Electronic grade high purity titanium
GB/T 14601-1993 电子工业用气体 高纯氨
本标准规定了电子工业用气体高纯氨的技术要求，试验方法，检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于瓶装高纯氨。该产品主要用于半导体工业，氮化硅的化学气相淀积，也可用于硅或氧化硅的氮化。 分子式：NH3 相对分子质量：17.031（按1989年国际相对
Gases for electronic industry. High purity ammonia
GB/T 18994-2003 电子工业用气体 高纯氯
本标准规定了电子工业用气体高纯氯产品的技术要求、试验方法、检验规则1,11t乏包装、标志、运输及贮存和安全要求。 本标准适用于以工业液氯为原料，采用物理吸附等过程生产的高纯氯产品。该产品主要用于大规模集成电路、光导纤维、高温超导、铝加工等高新技术领域。 分子式：Cl2。 相对分子
Gases for electronic industry--High purity chlorine
GB/T 18994-2014 电子工业用气体 高纯氯
本标准规定了高纯氯的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输和储存。本标准适用于以工业液氯为原料,采用物理吸附等过程生产的高纯氯产品。该产品主要用于大规模集成电路、光导纤维、高温超导、平板显示器、太阳能等技术领域。分子式:Cl2。相对分子质量:70.90(按2009年国际相对原子质量
Gases for electronic industry.High purity chlorine
SJ 20510-1995 电子陶瓷用钛酸钡粉体材料规范
Specification for barium titanate powder material for electronic ceramics
HG/T 5552～5555-2019 造纸工业用二氧化钛、土壤修复用过氧化氢、高纯氯化锶和高纯工业品硝酸（2019）
Titanium dioxide for the paper industry, hydrogen peroxide for soil remediation, high-purity strontium chloride and high-purity industrial nitric acid (2019)
HG/T 4509-2013 工业高纯氢氟酸
本标准规定了工业高纯氢氟酸的分级,要求,试验方法,检验规则,标志、标签,包装、运输和贮存及安全。本标准适用于工业高纯氢氟酸。该产品主要应用于太阳能光伏电池、液晶显示器件、集成电路和超大规模集成电路芯片的清洗、蚀刻,以及作为生产其他高纯氟化物的原料等
High purity hydrofluoric acid for industrial use
HG/T 3587-1999 电子工业用高纯钛酸钡
本标准规定了电子工业用高纯钛酸钡的要求、采样、试验方法以及标志、包装、运输、贮存。 本标准适用于电子工业用高纯钛酸钡，该产品主要用于电子工业中作为制造非线性元件，介质放大器、电子计算机的记忆元件、微型电容器以及超声波发生器等部件的材料
High purity barium titanate for electronic industrial use
HG/T 3587-2009 电子工业用高纯钛酸钡
本标准规定了电子工业用高纯钛酸钡的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存。 本标准适用于电子工业用高纯钛酸钡。该产品主要用于电子业中作为制造非线性元件、介质放大器、电子计算机的记忆元件、微型电容器以及超声波发生器等部件的材料
High purity barium titanate for electronic industrial use
HG/T 4695-2014 工业高纯碳酸钡
本标准规定了工业高纯碳酸钡的分型，要求，试验方法，检验规则，标志、标签，包装、运输和贮存。 本标准适用于工业高纯碳酸钡，该产品主要用于制造正温系数热敏电阻、积层电容、玻璃基板、中高压陶瓷电容、半导体电容，以及作为其他钡盐、发光材料、净水剂、磁性材料的原料
High purity barium carbonate for industrial use
T/CNIA 0063-2020 电子工业用高纯硝酸
本标准规定了电子工业用高纯硝酸的分级、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书、订货单（或合同）内容及安全。 本标准适用于电子工业用高纯硝酸（以下简称高纯硝酸）。该产品主要应用于电子级多晶硅、液晶显示器件、集成电路和超大规模集成电路用硅片、芯片的清洗、蚀刻等
High-purity nitric acid for electronics industry
T/CNIA 0121-2021 电子工业用高纯硫酸
本文件规定了电子工业用高纯硫酸（以下简称“高纯硫酸”）的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及随行文件和订货单内容。 本文件适用于电子工业用高纯硫酸
High-purity sulfuric acid for electronic industry
T/CNIA 0062-2020 电子工业用高纯氢氟酸
本标准规定了电子工业用高纯氢氟酸的分级、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书、订货单（或合同）内容及安全。 本标准适用于电子工业用高纯氢氟酸（以下简称高纯氢氟酸）。该产品主要应用于电子级多晶硅、液晶显示器、集成电路和超大规模集成电路用硅片、芯片的清洗、蚀刻等
High-purity hydrofluoric acid for electronics industry
EN ISO 21813:2022 精细陶瓷（高级陶瓷 高级工业陶瓷）高纯钛酸钡粉末化学分析方法
ISO 21813 specifies methods for the chemical analysis of fine high purity barium titanate powders used as the raw material for fine ceramics. ISO
Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics) - Methods for chemical analysis of high purity barium titanate powders (ISO 21813:2019)
ISO 21813:2019 精细陶瓷（高级陶瓷 高级工业陶瓷）高纯钛酸钡粉末化学分析方法
This document specifies methods for the chemical analysis of fine high purity barium titanate powders used as the raw material for fine ceramics
Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics) — Methods for chemical analysis of high purity barium titanate powders
DB52/T 795-2013 电子级高纯钛
Electronic grade high purity titanium
GB/T 14601-1993 电子工业用气体 高纯氨
本标准规定了电子工业用气体高纯氨的技术要求，试验方法，检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于瓶装高纯氨。该产品主要用于半导体工业，氮化硅的化学气相淀积，也可用于硅或氧化硅的氮化。 分子式：NH3 相对分子质量：17.031（按1989年国际相对
Gases for electronic industry. High purity ammonia
GB/T 18994-2003 电子工业用气体 高纯氯
本标准规定了电子工业用气体高纯氯产品的技术要求、试验方法、检验规则1,11t乏包装、标志、运输及贮存和安全要求。 本标准适用于以工业液氯为原料，采用物理吸附等过程生产的高纯氯产品。该产品主要用于大规模集成电路、光导纤维、高温超导、铝加工等高新技术领域。 分子式：Cl2。 相对分子
Gases for electronic industry--High purity chlorine
GB/T 18994-2014 电子工业用气体 高纯氯
本标准规定了高纯氯的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输和储存。本标准适用于以工业液氯为原料,采用物理吸附等过程生产的高纯氯产品。该产品主要用于大规模集成电路、光导纤维、高温超导、平板显示器、太阳能等技术领域。分子式:Cl2。相对分子质量:70.90(按2009年国际相对原子质量
Gases for electronic industry.High purity chlorine
SJ 20510-1995 电子陶瓷用钛酸钡粉体材料规范
Specification for barium titanate powder material for electronic ceramics
HG/T 5552～5555-2019 造纸工业用二氧化钛、土壤修复用过氧化氢、高纯氯化锶和高纯工业品硝酸（2019）
Titanium dioxide for the paper industry, hydrogen peroxide for soil remediation, high-purity strontium chloride and high-purity industrial nitric acid (2019)
HG/T 4509-2013 工业高纯氢氟酸
本标准规定了工业高纯氢氟酸的分级,要求,试验方法,检验规则,标志、标签,包装、运输和贮存及安全。本标准适用于工业高纯氢氟酸。该产品主要应用于太阳能光伏电池、液晶显示器件、集成电路和超大规模集成电路芯片的清洗、蚀刻,以及作为生产其他高纯氟化物的原料等
High purity hydrofluoric acid for industrial use
编辑：北检院编辑部
