高纯镓检测

GB/T 10118-2009 高纯镓

本标准规定了高纯镓的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单。 本部分适用于以纯度不小于99.99%工业镓为原料，经电解精炼、拉制单晶或其他提纯工艺制得的纯度不小于99.9999%的镓。产品制备化合物半导体材料和高纯合金

High purity gallium

GB/T 10118-1988 高纯镓

本标准规定了高纯镓的产品分类、技术要求、试验方法、检验规则和包装运输等。 本标准适用于以纯度不小于99.99％的工业镓为原料，经电解精炼等制得的纯度不小于99.9999％的镓；再以此为原料，经拉制单晶或其他提纯工艺等制得的纯度不小于99.99999％的镓。产品供制备化合物半导体材料和高

High purity gallium

YS/T 38.1-1992 高纯镓化学分析方法 钼蓝分光光度法测定硅量

Molybdenum Blue Spectrophotometric Method for Determination of Silicon Content by Chemical Analysis Method of High Purity Gallium

YS/T 38.2-1992 高纯镓化学分析方法 化学光谱法测定锰、镁、铬和锌量

High-purity gallium chemical analysis method Determination of manganese, magnesium, chromium and zinc content by chemical spectroscopy

YS/T 38.3-1992 高纯镓化学分析方法 化学光谱法测定铅、镍、锡和铜量

High-purity Gallium Chemical Analysis Method Chemical Spectrometry Determination of Lead, Nickel, Tin and Copper

YS/T 38.1-2009 高纯镓化学分析方法.第1部分:硅量的测定.钼蓝分光光度法

YS/T 38的本部分规定了高纯镓中硅含量的测定方法。 本部分适用于镓（99.9999%）中硅含量的测定。测定范围0.00001%-0.00005

Chemical analysis methods of high pure gallium.Part 1:Determination of silicon content.Molybdenum blue spectrophotomerty

SJ 20713-1998 砷化镓用高纯镓中铜、锰、镁、钒、钛等12种杂质的等离子体光谱分析法

本标准规定了高纯镓中铜、锰、镁、矾、钛等12种金属杂质的等离子体光谱测定方法

Method for the determination of 12 species of impurities including copper,maganese,magnesium,vanadium,titanium in high-purity gallium used for gallium arsenide by ICP spectrometry

YS/T 474-2005 高纯镓化学分析方法 痕量元素的测定 电感耦合等离子体质谱法

本标准规定了高纯镓中的铜、铅、锌、铟、铁、锡、镍、镁、钴、铬、锰、钛、铷、钼、铋等痕量元素含量的测定方法。 本标准适用于高纯镓(99.999％＜ω(Ga)≤99.999 99%)中铜、铅、锌、铟、铁、锡、镍、镁、钴、铬、锰、钛、铷、钼、铋等痕量元素含量的同时测定

Determination of trace elements in high-purity gallium -ICP-MS analytical method

YS/T 474-2021 高纯镓化学分析方法 痕量元素的测定 电感耦合等离子体质谱法

Chemical Analysis Methods for High Purity Gallium Determination of Trace Elements Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry

YS/T 38.3-2023 高纯镓化学分析方法 第3部分：痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法

Methods for chemical analysis of high purity gallium—Part 3：Determination of trace impurity elements contents—Glow discharge mass spectrometry

YS/T 979-2014 高纯三氧化二镓

本标准规定了高纯三氧化二镓的要求、检验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书及订货单(或合同)内容等。本标准适用于以高纯镓为原料,经氧化和粉末工艺制得的纯度为99.999 5%和99.999 9%的高纯三氧化二镓。产品供制备白光LED用的荧光粉、三钆石榴石(GGG晶体)和其他材料

High purity gallium oxide

YS/T 38.2-2009 高纯镓化学分析方法.第2部分:镁、钛、铬、锰、镍、钴、铜、锌、镉、锡、铅、铋量的测定.电感耦合等离子体质谱法

YS/T 38的本部分规定了高纯镓中杂质含量的测定方法

Chemical analysis methods of high pure gallium.Part 2:Determination of magnesium,titanium,chromium,manganese,nickel,cobalt,copper,zinc,cadmium,tin,lead,bismuth content.Inductively coupled plasma mass spectrometry

YS/T 980-2014 高纯三氧化二镓杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

本标准规定了高纯三氧化二镓中杂质元素含量的测定方法。本标准适用于高纯三氧化二镓中钠、镁、钙、钛、钒、铬、锰、铁、镍、钴、铜、锌、锡、铅、铟含量的测定。各元素测定范围为(1×10^-6)%~(4×10<上标-5

Determination of impurities of high purity gallium oxide.Inductively coupled plasma-mass spectrmetry

GB/T 1475-2022 镓

本文件规定了镓的产品分类、要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存及质量证明书和订货单(或合同)内容。 本文件适用于氧化铝生产过程中回收制取的工业镓(99.9%~99.999%)和以工业镓为原料经电解、精炼等方法制取的高纯镓(99.9999

Gallium

YS/T 244.4-2008 高纯铝化学分析方法 第4部分:丁基罗丹明B光度法测定镓含量

本部分规定了高纯铝中镓含量的测定方法。 本部分适用于高纯铝中镓含量的测定。测定范围：0.00002%～0.00020

Chemical analysis methods of high purity aluminum.Part 4: Determination of gallium content by butylrhodamine B photometric method

GB/T 10118-2009 高纯镓

本标准规定了高纯镓的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单。 本部分适用于以纯度不小于99.99%工业镓为原料，经电解精炼、拉制单晶或其他提纯工艺制得的纯度不小于99.9999%的镓。产品制备化合物半导体材料和高纯合金

High purity gallium

GB/T 10118-1988 高纯镓

本标准规定了高纯镓的产品分类、技术要求、试验方法、检验规则和包装运输等。 本标准适用于以纯度不小于99.99％的工业镓为原料，经电解精炼等制得的纯度不小于99.9999％的镓；再以此为原料，经拉制单晶或其他提纯工艺等制得的纯度不小于99.99999％的镓。产品供制备化合物半导体材料和高

High purity gallium

YS/T 38.1-1992 高纯镓化学分析方法 钼蓝分光光度法测定硅量

Molybdenum Blue Spectrophotometric Method for Determination of Silicon Content by Chemical Analysis Method of High Purity Gallium

YS/T 38.2-1992 高纯镓化学分析方法 化学光谱法测定锰、镁、铬和锌量

High-purity gallium chemical analysis method Determination of manganese, magnesium, chromium and zinc content by chemical spectroscopy

YS/T 38.3-1992 高纯镓化学分析方法 化学光谱法测定铅、镍、锡和铜量

High-purity Gallium Chemical Analysis Method Chemical Spectrometry Determination of Lead, Nickel, Tin and Copper

YS/T 38.1-2009 高纯镓化学分析方法.第1部分:硅量的测定.钼蓝分光光度法

YS/T 38的本部分规定了高纯镓中硅含量的测定方法。 本部分适用于镓（99.9999%）中硅含量的测定。测定范围0.00001%-0.00005

Chemical analysis methods of high pure gallium.Part 1:Determination of silicon content.Molybdenum blue spectrophotomerty

SJ 20713-1998 砷化镓用高纯镓中铜、锰、镁、钒、钛等12种杂质的等离子体光谱分析法

本标准规定了高纯镓中铜、锰、镁、矾、钛等12种金属杂质的等离子体光谱测定方法

Method for the determination of 12 species of impurities including copper,maganese,magnesium,vanadium,titanium in high-purity gallium used for gallium arsenide by ICP spectrometry

YS/T 474-2005 高纯镓化学分析方法 痕量元素的测定 电感耦合等离子体质谱法

本标准规定了高纯镓中的铜、铅、锌、铟、铁、锡、镍、镁、钴、铬、锰、钛、铷、钼、铋等痕量元素含量的测定方法。 本标准适用于高纯镓(99.999％＜ω(Ga)≤99.999 99%)中铜、铅、锌、铟、铁、锡、镍、镁、钴、铬、锰、钛、铷、钼、铋等痕量元素含量的同时测定

Determination of trace elements in high-purity gallium -ICP-MS analytical method

YS/T 474-2021 高纯镓化学分析方法 痕量元素的测定 电感耦合等离子体质谱法

Chemical Analysis Methods for High Purity Gallium Determination of Trace Elements Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry

YS/T 38.3-2023 高纯镓化学分析方法 第3部分：痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法

Methods for chemical analysis of high purity gallium—Part 3：Determination of trace impurity elements contents—Glow discharge mass spectrometry

YS/T 979-2014 高纯三氧化二镓

本标准规定了高纯三氧化二镓的要求、检验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书及订货单(或合同)内容等。本标准适用于以高纯镓为原料,经氧化和粉末工艺制得的纯度为99.999 5%和99.999 9%的高纯三氧化二镓。产品供制备白光LED用的荧光粉、三钆石榴石(GGG晶体)和其他材料

High purity gallium oxide

YS/T 38.2-2009 高纯镓化学分析方法.第2部分:镁、钛、铬、锰、镍、钴、铜、锌、镉、锡、铅、铋量的测定.电感耦合等离子体质谱法

YS/T 38的本部分规定了高纯镓中杂质含量的测定方法

Chemical analysis methods of high pure gallium.Part 2:Determination of magnesium,titanium,chromium,manganese,nickel,cobalt,copper,zinc,cadmium,tin,lead,bismuth content.Inductively coupled plasma mass spectrometry

YS/T 980-2014 高纯三氧化二镓杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

本标准规定了高纯三氧化二镓中杂质元素含量的测定方法。本标准适用于高纯三氧化二镓中钠、镁、钙、钛、钒、铬、锰、铁、镍、钴、铜、锌、锡、铅、铟含量的测定。各元素测定范围为(1×10^-6)%~(4×10<上标-5

Determination of impurities of high purity gallium oxide.Inductively coupled plasma-mass spectrmetry

GB/T 1475-2022 镓

本文件规定了镓的产品分类、要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存及质量证明书和订货单(或合同)内容。 本文件适用于氧化铝生产过程中回收制取的工业镓(99.9%~99.999%)和以工业镓为原料经电解、精炼等方法制取的高纯镓(99.9999

Gallium

YS/T 244.4-2008 高纯铝化学分析方法 第4部分:丁基罗丹明B光度法测定镓含量

本部分规定了高纯铝中镓含量的测定方法。 本部分适用于高纯铝中镓含量的测定。测定范围：0.00002%～0.00020

Chemical analysis methods of high purity aluminum.Part 4: Determination of gallium content by butylrhodamine B photometric method