JB/T 53021-1999 真空镀膜设备 产品质量分等
Vacuum coating equipment product quality classification
GB/T 11164-1999 真空镀膜设备通用技术条件
本标准规定了真空镀膜设备技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存等。 本标准适用于压力在10-4～10-3Pa范围的蒸发类、溅射类、离子镀类真空镀膜设备（以下简称设备
Vacuum coating plant generic specification
GB/T 11164-2011 真空镀膜设备通用技术条件
本标准规定了真空镀膜设备的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存等要求。 本标准适用于螳力在10 …Pa ~10 3 Pa 范围的真空蒸发类、溅射类、离子镀类真空镀膜设备〔以下简称设备汕
Vacuum coating plant generic specification
SJ/T 31082-1994 真空镀膜设备完好要求和检查评定方法
本标准规定了真空镀膜设备的完好要求和检查、评定方法。 标准适用于极限压力在1×10^(-5)～1×10^(-4)pa范围内的各种型号真空镀膜设备
Requirements of readiness and methods of inspection and assessment for vacuum coating equipment
SJ/T 31083-2016 真空镀膜设备完好要求和检查评定方法
Vacuum coating equipment integrity requirements and inspection and assessment methods
SJ/T 31083-1994 DM-450A真空镀膜设备完好要求和检查评定方法
本标准规定了DM-450A型真空镀膜机的完好要求和检查、评定方法。 本标准适用于DM-450A型、DM-300B型、GDM-300B型、ZD-306型真空镀膜机
Requirements of readiness and methods of inspection and assessment for DM-450A vacuum coating equipment
T/GVS 001-2021 真空镀膜设备 电磁兼容 屏蔽与辐射安全技术规范
规定了真空镀膜设备电磁屏蔽与辐射安全的术语和定义、材料、技术要求和试验方法。适用于电气工作频率为40 MHz以下的工业用真空镀膜设备（以下简称“设备”）及设备的现场测量
Vacuum coating plant—Electromagnetic compatibility—Technical specification for shielding and radiation safety
JB/T 8946-1999 真空离子镀膜设备
本标准规定了真空离子镀膜设备的技术要求，试验方法，检验规则，标志、包装、运输和贮存等。 本标准适用于压力在10^(-4)～10^(-3)Pa范围的真空离子镀膜设备，具体包括如下类型：多弧离子镀、电弧放电型真空离子镀、空心阴极离子镀(HCD)、射频离子镀(RFIP)、直流放电二极型
Vacuum ion coating plant
JB/T 6922-2004 真空蒸发镀膜设备
本标准规定了真空蒸发镀膜设备的型式和基本参数、技术要求、试验方法、检验规则及标增、包装、运输、贮存等要求。 本标准适用于极限压力在5×10^(-4)pa～5×10^(-3)Pa范围的真空蒸发镀膜设备
Vacuum evaporation coating plant
JB/T 8946-2010 真空离子镀膜设备
本标准规定了真空离子镀膜设备的型式与基本参数、技术要求、设备检验及其品质评价、质量承诺及标志、包装、运输和贮存。 本标准适用于： 电弧蒸发离子镀膜设备； 电子束蒸发离子镀膜设备； 磁控溅射离子镀膜设备； 上述三类离子镀膜设备的组合。 其他类型的具有离子镀膜特征的设备可参照执行本标准
Vacuum ion coating plant
JB/T 8945-2010 真空溅射镀膜设备
本标准规定了真空溅射镀膜设备的基本参数、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存等。
本标准适用于压力在1×10
Vacuum sputtering coating plant
JB/T 8945-1999 真空溅射镀膜设备
本标准规定了真空溅射镀膜设备的型号和基本参数，技术要求，试验方法，榆验规则，标志、包装、运输和贮存等。 本标准适用于压力在1×10^(-4)～5×10^(-3)Pa范围的真空贱射镀膜设备
Vacuum sputtering coating plant
JB/T 6922-1993 真空蒸发镀膜设备
Vacuum evaporation coating equipment
JB/T 6922-2015 真空蒸发镀膜设备
本标准规定了真空蒸发镀膜设备的型号、形式与基本参数、技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存。 本标准适用于极限压力在5×10-4 Pa~5×10-3 Pa范围内的真空蒸发镀膜设备(以下简称设备
Vacuum evaporation coating plant
T/GVS 010-2022 真空卷绕镀膜设备通用技术要求
规定了真空卷绕镀膜设备通用技术要求的术语和定义、组成、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。适用于真空蒸发卷绕镀膜设备、真空磁控溅射卷绕镀膜设备、真空化学气相沉积（CVD）卷绕镀膜设备
Generic specification for vacuum roll-to-roll coating plant
JB/T 53021-1999 真空镀膜设备 产品质量分等
Vacuum coating equipment product quality classification
GB/T 11164-1999 真空镀膜设备通用技术条件
本标准规定了真空镀膜设备技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存等。 本标准适用于压力在10-4～10-3Pa范围的蒸发类、溅射类、离子镀类真空镀膜设备（以下简称设备
Vacuum coating plant generic specification
GB/T 11164-2011 真空镀膜设备通用技术条件
本标准规定了真空镀膜设备的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存等要求。 本标准适用于螳力在10 …Pa ~10 3 Pa 范围的真空蒸发类、溅射类、离子镀类真空镀膜设备〔以下简称设备汕
Vacuum coating plant generic specification
SJ/T 31082-1994 真空镀膜设备完好要求和检查评定方法
本标准规定了真空镀膜设备的完好要求和检查、评定方法。 标准适用于极限压力在1×10^(-5)～1×10^(-4)pa范围内的各种型号真空镀膜设备
Requirements of readiness and methods of inspection and assessment for vacuum coating equipment
SJ/T 31083-2016 真空镀膜设备完好要求和检查评定方法
Vacuum coating equipment integrity requirements and inspection and assessment methods
SJ/T 31083-1994 DM-450A真空镀膜设备完好要求和检查评定方法
本标准规定了DM-450A型真空镀膜机的完好要求和检查、评定方法。 本标准适用于DM-450A型、DM-300B型、GDM-300B型、ZD-306型真空镀膜机
Requirements of readiness and methods of inspection and assessment for DM-450A vacuum coating equipment
T/GVS 001-2021 真空镀膜设备 电磁兼容 屏蔽与辐射安全技术规范
规定了真空镀膜设备电磁屏蔽与辐射安全的术语和定义、材料、技术要求和试验方法。适用于电气工作频率为40 MHz以下的工业用真空镀膜设备（以下简称“设备”）及设备的现场测量
Vacuum coating plant—Electromagnetic compatibility—Technical specification for shielding and radiation safety
JB/T 8946-1999 真空离子镀膜设备
本标准规定了真空离子镀膜设备的技术要求，试验方法，检验规则，标志、包装、运输和贮存等。 本标准适用于压力在10^(-4)～10^(-3)Pa范围的真空离子镀膜设备，具体包括如下类型：多弧离子镀、电弧放电型真空离子镀、空心阴极离子镀(HCD)、射频离子镀(RFIP)、直流放电二极型
Vacuum ion coating plant
JB/T 6922-2004 真空蒸发镀膜设备
本标准规定了真空蒸发镀膜设备的型式和基本参数、技术要求、试验方法、检验规则及标增、包装、运输、贮存等要求。 本标准适用于极限压力在5×10^(-4)pa～5×10^(-3)Pa范围的真空蒸发镀膜设备
Vacuum evaporation coating plant
JB/T 8946-2010 真空离子镀膜设备
本标准规定了真空离子镀膜设备的型式与基本参数、技术要求、设备检验及其品质评价、质量承诺及标志、包装、运输和贮存。 本标准适用于： 电弧蒸发离子镀膜设备； 电子束蒸发离子镀膜设备； 磁控溅射离子镀膜设备； 上述三类离子镀膜设备的组合。 其他类型的具有离子镀膜特征的设备可参照执行本标准
Vacuum ion coating plant
JB/T 8945-2010 真空溅射镀膜设备
本标准规定了真空溅射镀膜设备的基本参数、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存等。
本标准适用于压力在1×10
Vacuum sputtering coating plant
JB/T 8945-1999 真空溅射镀膜设备
本标准规定了真空溅射镀膜设备的型号和基本参数，技术要求，试验方法，榆验规则，标志、包装、运输和贮存等。 本标准适用于压力在1×10^(-4)～5×10^(-3)Pa范围的真空贱射镀膜设备
Vacuum sputtering coating plant
JB/T 6922-1993 真空蒸发镀膜设备
Vacuum evaporation coating equipment
JB/T 6922-2015 真空蒸发镀膜设备
本标准规定了真空蒸发镀膜设备的型号、形式与基本参数、技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存。 本标准适用于极限压力在5×10-4 Pa~5×10-3 Pa范围内的真空蒸发镀膜设备(以下简称设备
Vacuum evaporation coating plant
T/GVS 010-2022 真空卷绕镀膜设备通用技术要求
规定了真空卷绕镀膜设备通用技术要求的术语和定义、组成、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。适用于真空蒸发卷绕镀膜设备、真空磁控溅射卷绕镀膜设备、真空化学气相沉积（CVD）卷绕镀膜设备
Generic specification for vacuum roll-to-roll coating plant
编辑：北检院编辑部
