GB/T 7445-1995 纯氢、高纯氢和超纯氢
本标准规定了纯氢、高纯氢、超纯氢的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、贮存及运输和安全要求。 本标准适用于以工业氢为原料经吸附法、扩散法以及其他方法净化制取的瓶装或管道输送的氢气， 主要用于电子工业、石油化工、金属冶炼、国防尖端技术和科学研究等部门
Pure hydrogen, high pruity hydrogen and ultra pure hydrogen
GB/T 3634.2-2011 氢气.第2部分：纯氢、高纯氢和超纯氢
本部分规定了纯氢,高纯气和超纯氢的技术要求、试验方法.包装标志、迪运及安全要求。 本部分适用于经吸附法.扩散法等制取的瓶装、集装格装和管道输送的氢气。 它主要用于电子工業、石油化工金屬治煉和科學研究等領域。 分子式:Hz。 相對分子質量:2.015 88(按2007 年国际相对原子质量
Hydrogen.Part 2: Pure hydrogen,high pure hydrogen and ultrapure hydrogen
T/QGCML 1060-2023 高纯绿氢纯化装置
本文件规定了高纯绿氢纯化装置（以下简称“纯化装置”）的术语和定义、基本参数、一般要求、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。 本文件适用于最大处理气量不超过30000 m3/h的制取高纯度绿氢的纯化装置。 注1：本文件中最大处理气量均为标准状态，即0
High purity green hydrogen purification device
GB/T 23361-2009 高纯氢氧化铟
本标准规定了高纯氢氧化铟的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。
本标准适用于以金属铟为原料，经净化、中和、沉淀制得的高纯氢氧化铟，产品主要用于制取碱性电池、ITO及电子元件材料等。
分子式：In(OH)
High purity indium hydroxide
GB/T 11199-2006 高纯氢氧化钠
本标准规定了高纯氢氧化钠的要求、采样、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存、安全。 本标准适用于氯化钠水溶液电解生产的氢氧化钠产品
High-purity sodium hydroxide
HG/T 4509-2013 工业高纯氢氟酸
本标准规定了工业高纯氢氟酸的分级,要求,试验方法,检验规则,标志、标签,包装、运输和贮存及安全。本标准适用于工业高纯氢氟酸。该产品主要应用于太阳能光伏电池、液晶显示器件、集成电路和超大规模集成电路芯片的清洗、蚀刻,以及作为生产其他高纯氟化物的原料等
High purity hydrofluoric acid for industrial use
KS M 8451-2012 高纯氢氧化钠溶液
이 표준은 고순도 시약용 수산화소듐 용액(이하 수산화소듐 용액이라 한다.)에 대하여 적용한
Highly purified sodium hydroxide solution
HG/T 5736-2020 高纯工业品过氧化氢
High purity industrial hydrogen peroxide
T/ZZB 1007-2019 高纯氯化氢焊接气瓶
本标准规定了高纯氯化氢焊接气瓶（以下简称“钢瓶”）的术语、定义、符号、基本参数、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、充装、使用、标志、包装、运输、贮存等要求及质量承诺。 本标准适用于在正常环境温度-40 ℃～60 ℃下使用、水压试验压力不大于20 MPa（表压
High purity hydrogen chloride welded gas cylinders
JIS K 9906:1995 高提纯氢氧化钠溶液
この規格は，高純度試薬として用いる水酸化ナトリウム溶液について規定する
Highly purified sodium hydroxide solution
KS M 8451-2018(2023 高纯度氢氧化钠溶液
Highly purified sodium hydroxide solution
KS M 8451-2018 高纯度的氢氧化钠溶液
Highly purified sodium hydroxide solution
T/CNIA 0062-2020 电子工业用高纯氢氟酸
本标准规定了电子工业用高纯氢氟酸的分级、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书、订货单（或合同）内容及安全。 本标准适用于电子工业用高纯氢氟酸（以下简称高纯氢氟酸）。该产品主要应用于电子级多晶硅、液晶显示器、集成电路和超大规模集成电路用硅片、芯片的清洗、蚀刻等
High-purity hydrofluoric acid for electronics industry
GOST R 51673-2000 气态纯氢.规范
Gaseous pure hydrogen. Specifications
SAE AMS3010-1985 氢气，液态，高纯度，推进剂级
HYDROGEN, LIQUID, HIGH PURITY, PROPELLANT GRADE
GB/T 7445-1995 纯氢、高纯氢和超纯氢
本标准规定了纯氢、高纯氢、超纯氢的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、贮存及运输和安全要求。 本标准适用于以工业氢为原料经吸附法、扩散法以及其他方法净化制取的瓶装或管道输送的氢气， 主要用于电子工业、石油化工、金属冶炼、国防尖端技术和科学研究等部门
Pure hydrogen, high pruity hydrogen and ultra pure hydrogen
GB/T 3634.2-2011 氢气.第2部分：纯氢、高纯氢和超纯氢
本部分规定了纯氢,高纯气和超纯氢的技术要求、试验方法.包装标志、迪运及安全要求。 本部分适用于经吸附法.扩散法等制取的瓶装、集装格装和管道输送的氢气。 它主要用于电子工業、石油化工金屬治煉和科學研究等領域。 分子式:Hz。 相對分子質量:2.015 88(按2007 年国际相对原子质量
Hydrogen.Part 2: Pure hydrogen,high pure hydrogen and ultrapure hydrogen
T/QGCML 1060-2023 高纯绿氢纯化装置
本文件规定了高纯绿氢纯化装置（以下简称“纯化装置”）的术语和定义、基本参数、一般要求、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。 本文件适用于最大处理气量不超过30000 m3/h的制取高纯度绿氢的纯化装置。 注1：本文件中最大处理气量均为标准状态，即0
High purity green hydrogen purification device
GB/T 23361-2009 高纯氢氧化铟
本标准规定了高纯氢氧化铟的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。
本标准适用于以金属铟为原料，经净化、中和、沉淀制得的高纯氢氧化铟，产品主要用于制取碱性电池、ITO及电子元件材料等。
分子式：In(OH)
High purity indium hydroxide
GB/T 11199-2006 高纯氢氧化钠
本标准规定了高纯氢氧化钠的要求、采样、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存、安全。 本标准适用于氯化钠水溶液电解生产的氢氧化钠产品
High-purity sodium hydroxide
HG/T 4509-2013 工业高纯氢氟酸
本标准规定了工业高纯氢氟酸的分级,要求,试验方法,检验规则,标志、标签,包装、运输和贮存及安全。本标准适用于工业高纯氢氟酸。该产品主要应用于太阳能光伏电池、液晶显示器件、集成电路和超大规模集成电路芯片的清洗、蚀刻,以及作为生产其他高纯氟化物的原料等
High purity hydrofluoric acid for industrial use
KS M 8451-2012 高纯氢氧化钠溶液
이 표준은 고순도 시약용 수산화소듐 용액(이하 수산화소듐 용액이라 한다.)에 대하여 적용한
Highly purified sodium hydroxide solution
HG/T 5736-2020 高纯工业品过氧化氢
High purity industrial hydrogen peroxide
T/ZZB 1007-2019 高纯氯化氢焊接气瓶
本标准规定了高纯氯化氢焊接气瓶（以下简称“钢瓶”）的术语、定义、符号、基本参数、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、充装、使用、标志、包装、运输、贮存等要求及质量承诺。 本标准适用于在正常环境温度-40 ℃～60 ℃下使用、水压试验压力不大于20 MPa（表压
High purity hydrogen chloride welded gas cylinders
JIS K 9906:1995 高提纯氢氧化钠溶液
この規格は，高純度試薬として用いる水酸化ナトリウム溶液について規定する
Highly purified sodium hydroxide solution
KS M 8451-2018(2023 高纯度氢氧化钠溶液
Highly purified sodium hydroxide solution
KS M 8451-2018 高纯度的氢氧化钠溶液
Highly purified sodium hydroxide solution
T/CNIA 0062-2020 电子工业用高纯氢氟酸
本标准规定了电子工业用高纯氢氟酸的分级、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书、订货单（或合同）内容及安全。 本标准适用于电子工业用高纯氢氟酸（以下简称高纯氢氟酸）。该产品主要应用于电子级多晶硅、液晶显示器、集成电路和超大规模集成电路用硅片、芯片的清洗、蚀刻等
High-purity hydrofluoric acid for electronics industry
GOST R 51673-2000 气态纯氢.规范
Gaseous pure hydrogen. Specifications
SAE AMS3010-1985 氢气，液态，高纯度，推进剂级
HYDROGEN, LIQUID, HIGH PURITY, PROPELLANT GRADE
编辑：北检院编辑部
