高纯氢检测

GB/T 7445-1995 纯氢、高纯氢和超纯氢

本标准规定了纯氢、高纯氢、超纯氢的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、贮存及运输和安全要求。 本标准适用于以工业氢为原料经吸附法、扩散法以及其他方法净化制取的瓶装或管道输送的氢气， 主要用于电子工业、石油化工、金属冶炼、国防尖端技术和科学研究等部门

Pure hydrogen, high pruity hydrogen and ultra pure hydrogen

GB/T 23361-2009 高纯氢氧化铟

本标准规定了高纯氢氧化铟的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。 本标准适用于以金属铟为原料，经净化、中和、沉淀制得的高纯氢氧化铟，产品主要用于制取碱性电池、ITO及电子元件材料等。 分子式：In(OH) 相对分子质量：165.85（按2007

High purity indium hydroxide

GB/T 3634.2-2011 氢气.第2部分：纯氢、高纯氢和超纯氢

本部分规定了纯氢,高纯气和超纯氢的技术要求、试验方法.包装标志、迪运及安全要求。 本部分适用于经吸附法.扩散法等制取的瓶装、集装格装和管道输送的氢气。 它主要用于电子工業、石油化工金屬治煉和科學研究等領域。 分子式:Hz。 相對分子質量:2.015 88(按2007 年国际相对原子质量

Hydrogen.Part 2: Pure hydrogen,high pure hydrogen and ultrapure hydrogen

GB/T 11199-2006 高纯氢氧化钠

本标准规定了高纯氢氧化钠的要求、采样、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存、安全。 本标准适用于氯化钠水溶液电解生产的氢氧化钠产品

High-purity sodium hydroxide

HG/T 4509-2013 工业高纯氢氟酸

本标准规定了工业高纯氢氟酸的分级,要求,试验方法,检验规则,标志、标签,包装、运输和贮存及安全。本标准适用于工业高纯氢氟酸。该产品主要应用于太阳能光伏电池、液晶显示器件、集成电路和超大规模集成电路芯片的清洗、蚀刻,以及作为生产其他高纯氟化物的原料等

High purity hydrofluoric acid for industrial use

KS M 8451-2012 高纯氢氧化钠溶液

이 표준은 고순도 시약용 수산화소듐 용액(이하 수산화소듐 용액이라 한다.)에 대하여 적용한

Highly purified sodium hydroxide solution

T/CNIA 0062-2020 电子工业用高纯氢氟酸

本标准规定了电子工业用高纯氢氟酸的分级、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书、订货单（或合同）内容及安全。 本标准适用于电子工业用高纯氢氟酸（以下简称高纯氢氟酸）。该产品主要应用于电子级多晶硅、液晶显示器、集成电路和超大规模集成电路用硅片、芯片的清洗、蚀刻等

High-purity hydrofluoric acid for electronics industry

T/FJAS 015-2022 锂电池材料用高纯氢氧化钠

表1  锂电池材料用高纯氢氧化钠技术要求 质量分数（%） 项目　指标要求 氢氧化钠（以NaOH计）　≥32.0且≤32.3 碳酸钠（以Na2CO3计）　≤0.02 氯化钠（以NaCl计） 　≤0.003 硫酸钠（以Na2SO4计）　≤0.001 氯酸钠（以

High-purity sodium hydroxide for lithium battery materials

T/QGCML 1060-2023 高纯绿氢纯化装置

本文件规定了高纯绿氢纯化装置（以下简称“纯化装置”）的术语和定义、基本参数、一般要求、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。 本文件适用于最大处理气量不超过30000 m3/h的制取高纯度绿氢的纯化装置。 注1：本文件中最大处理气量均为标准状态，即0 

High purity green hydrogen purification device

DB51/T 2004-2015 高纯氢氧化钠中硫酸盐的检测 离子色谱法

本标准规定了高纯氢氧化钠中硫酸盐的离子色谱检测方法。 本标准适用于高纯氢氧化钠中硫酸盐的测定

Ion Chromatography for Detection of Sulfate in High Purity Sodium Hydroxide

JIS K 9906:1995 高提纯氢氧化钠溶液

この規格は，高純度試薬として用いる水酸化ナトリウム溶液について規定する

Highly purified sodium hydroxide solution

KS M 8451-2018(2023 高纯度氢氧化钠溶液

Highly purified sodium hydroxide solution

DB34/T 2192-2014 高纯氢氧化钠中氯离子和硫酸根含量的测定 离子色谱法

本标准规定了高纯氢氧化钠中氯离子和硫酸根的测定方法。 本标准适用于高纯氢氧化钠中氯离子和硫酸根的测定

Determination of Chloride and Sulfate Content in High Purity Sodium Hydroxide by Ion Chromatography

GB/T 23362.6-2009 高纯氢氧化铟化学分析方法.第6部分:灼减量的测定 称量法

GB/T 23362的本部分规定了高纯氢氧化铟灼减量的测定方法。 本部分适用于高纯氢氧化铟灼减量的测定，测定范围（质量分数）为16.00％～18.00

Methods for chemical analysis of high purity indium hydroxide.Part 6:Determination of the loss on ignition.Gravimetric analysis

T/CNIA 0117-2021 电子工业用高纯氢氟酸中痕量阴离子含量的测定 离子色谱法

本文件规定了离子色谱法测定电子工业用高纯氢氟酸中痕量阴离子（氯化物、硝酸根、磷酸根、硫酸根）的方法。 本文件适用于电子工业用高纯氢氟酸中痕量阴离子含量的测定。测定范围：10.000μg/kg～5000.000μg/kg

Determination of trace anion content in high-purity hydrofluoric acid for electronics industry Ion chromatography

GB/T 7445-1995 纯氢、高纯氢和超纯氢

本标准规定了纯氢、高纯氢、超纯氢的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、贮存及运输和安全要求。 本标准适用于以工业氢为原料经吸附法、扩散法以及其他方法净化制取的瓶装或管道输送的氢气， 主要用于电子工业、石油化工、金属冶炼、国防尖端技术和科学研究等部门

Pure hydrogen, high pruity hydrogen and ultra pure hydrogen

GB/T 23361-2009 高纯氢氧化铟

本标准规定了高纯氢氧化铟的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。 本标准适用于以金属铟为原料，经净化、中和、沉淀制得的高纯氢氧化铟，产品主要用于制取碱性电池、ITO及电子元件材料等。 分子式：In(OH) 相对分子质量：165.85（按2007

High purity indium hydroxide

GB/T 3634.2-2011 氢气.第2部分：纯氢、高纯氢和超纯氢

本部分规定了纯氢,高纯气和超纯氢的技术要求、试验方法.包装标志、迪运及安全要求。 本部分适用于经吸附法.扩散法等制取的瓶装、集装格装和管道输送的氢气。 它主要用于电子工業、石油化工金屬治煉和科學研究等領域。 分子式:Hz。 相對分子質量:2.015 88(按2007 年国际相对原子质量

Hydrogen.Part 2: Pure hydrogen,high pure hydrogen and ultrapure hydrogen

GB/T 11199-2006 高纯氢氧化钠

本标准规定了高纯氢氧化钠的要求、采样、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存、安全。 本标准适用于氯化钠水溶液电解生产的氢氧化钠产品

High-purity sodium hydroxide

HG/T 4509-2013 工业高纯氢氟酸

本标准规定了工业高纯氢氟酸的分级,要求,试验方法,检验规则,标志、标签,包装、运输和贮存及安全。本标准适用于工业高纯氢氟酸。该产品主要应用于太阳能光伏电池、液晶显示器件、集成电路和超大规模集成电路芯片的清洗、蚀刻,以及作为生产其他高纯氟化物的原料等

High purity hydrofluoric acid for industrial use

KS M 8451-2012 高纯氢氧化钠溶液

이 표준은 고순도 시약용 수산화소듐 용액(이하 수산화소듐 용액이라 한다.)에 대하여 적용한

Highly purified sodium hydroxide solution

T/CNIA 0062-2020 电子工业用高纯氢氟酸

本标准规定了电子工业用高纯氢氟酸的分级、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书、订货单（或合同）内容及安全。 本标准适用于电子工业用高纯氢氟酸（以下简称高纯氢氟酸）。该产品主要应用于电子级多晶硅、液晶显示器、集成电路和超大规模集成电路用硅片、芯片的清洗、蚀刻等

High-purity hydrofluoric acid for electronics industry

T/FJAS 015-2022 锂电池材料用高纯氢氧化钠

表1  锂电池材料用高纯氢氧化钠技术要求 质量分数（%） 项目　指标要求 氢氧化钠（以NaOH计）　≥32.0且≤32.3 碳酸钠（以Na2CO3计）　≤0.02 氯化钠（以NaCl计） 　≤0.003 硫酸钠（以Na2SO4计）　≤0.001 氯酸钠（以

High-purity sodium hydroxide for lithium battery materials

T/QGCML 1060-2023 高纯绿氢纯化装置

本文件规定了高纯绿氢纯化装置（以下简称“纯化装置”）的术语和定义、基本参数、一般要求、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。 本文件适用于最大处理气量不超过30000 m3/h的制取高纯度绿氢的纯化装置。 注1：本文件中最大处理气量均为标准状态，即0 

High purity green hydrogen purification device

DB51/T 2004-2015 高纯氢氧化钠中硫酸盐的检测 离子色谱法

本标准规定了高纯氢氧化钠中硫酸盐的离子色谱检测方法。 本标准适用于高纯氢氧化钠中硫酸盐的测定

Ion Chromatography for Detection of Sulfate in High Purity Sodium Hydroxide

JIS K 9906:1995 高提纯氢氧化钠溶液

この規格は，高純度試薬として用いる水酸化ナトリウム溶液について規定する

Highly purified sodium hydroxide solution

KS M 8451-2018(2023 高纯度氢氧化钠溶液

Highly purified sodium hydroxide solution

DB34/T 2192-2014 高纯氢氧化钠中氯离子和硫酸根含量的测定 离子色谱法

本标准规定了高纯氢氧化钠中氯离子和硫酸根的测定方法。 本标准适用于高纯氢氧化钠中氯离子和硫酸根的测定

Determination of Chloride and Sulfate Content in High Purity Sodium Hydroxide by Ion Chromatography

GB/T 23362.6-2009 高纯氢氧化铟化学分析方法.第6部分:灼减量的测定 称量法

GB/T 23362的本部分规定了高纯氢氧化铟灼减量的测定方法。 本部分适用于高纯氢氧化铟灼减量的测定，测定范围（质量分数）为16.00％～18.00

Methods for chemical analysis of high purity indium hydroxide.Part 6:Determination of the loss on ignition.Gravimetric analysis

T/CNIA 0117-2021 电子工业用高纯氢氟酸中痕量阴离子含量的测定 离子色谱法

本文件规定了离子色谱法测定电子工业用高纯氢氟酸中痕量阴离子（氯化物、硝酸根、磷酸根、硫酸根）的方法。 本文件适用于电子工业用高纯氢氟酸中痕量阴离子含量的测定。测定范围：10.000μg/kg～5000.000μg/kg

Determination of trace anion content in high-purity hydrofluoric acid for electronics industry Ion chromatography