GB/T 16944-2009 电子工业用气体.氮
本标准规定了电子工业用气体氮技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以深冷法从空气中提取的气态和液态氮，以及经电化学方法得到的氮。它们在超大规模集成电路制造中用作保护、吹扫、覆盖、加压，化学气相淀积等
Gas for electronic industry.Nitrogen
GB/T 16944-1997 电子工业用气体 氮
本标准规定了电子工业用液态和气态氮的技术要求、检验方法以及包装、标志等，适用于从分离空气或氨还原法制得的氮，在超大规模集成电路制造中用作净化、覆盖、保护、加压，也用于化学气相淀积时的载气等。 氮气化学性质不活泼，不可燃，是一种窒息性气体。 分子式：N2。 相对分子
Gases for electronic industry--Nitrogen
GB/T 14600-1993 电子工业用气体 氧化亚氮
本标准规定了电子工业用气体--瓶装氧化亚氮的技术要求、试验方法、验收规则及包装、标志、贮存与运输要求。 本标准适用于硝酸铵热分解工艺制取的氧化亚氮。该产品主要用于电子工业中二氧化硅的化学气相淀积、等离子工艺。 分子式：N2O 相对分子质量：44.01（按1989年国际相对
Gases for electronic industry. Nitrous oxide
GB/T 14600-2009 电子工业用气体.氧化亚氮
本标准规定了氧化亚氮的技术要求，试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于电子工业中化学气相淀积工艺
Gas for electronic industry.Nitrous Oxide
T/DLSHXH 002-2018 电子工业用气体 一氧化氮
本标准规定了电子工业用气体一氧化氮的技术要求、试验方法、检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于电子工业用气体一氧化氮
Gas for electronic industry—Nitric oxide
GB/T 21287-2007 电子工业用气体.三氟化氮
本标准规定了瓶装电子工业用气体——三氟化氮的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输、储存和安全。 本标准适用于电子工业用三氟化氮。它主要用作电子工业中等离子体工艺等离子体刻蚀剂和化学气相沉积的清洗剂。 分子式：NF3。 分子量：71.001 9（按2001年国际相对原子量
Gases for electronic industry.Nitrogen trifluoride
T/CHBAS 22-2022 电子工业用混合气体0.52%氮/氦
本文件规定了0.52%氮/氦混合气的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和储存的要求。 本文件适用于电子工业用0.52%氮/氦混合气（以下简称0.52%氮/氦混合气），其它组分比例的氮氦混合气可参考执行
Mixed gas 0.52% nitrogen/helium for electronic industry
HG/T 5895-2022 工业用混合气体 硅烷/氮气
Industrial mixed gas silane/nitrogen
T/CHBAS 26-2022 电子工业用混合气体4%氢/氮
本文件规定了4%氢/氮混合气的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和储存的要求。 本文件适用于电子工业用4%氢/氮混合气（以下简称4%氢/氮混合气），其它组分比例的氢氮混合气可参考执行
Mixed gas 4% hydrogen/nitrogen for electronic industry
BS 4366:1993(2011 工业氮气规范
Specification for Industrial nitrogen
TIS 175-1976 工业用氮气标准
Standard for nitrogen for industrial use
KS B 4905-1986(2023 钢的气体氮化加工
CSN ON 65 4510-1962 分析工业脱气．氮法测定
GB/T 3864-1996 工业氮
本标准规定了工业氮产品的技术要求、检验方法以及包装、标志等。本标准适用于由空气分离制取的气态氮或液态氮，其化学性质不活泼，不可燃，是一种窒息性气体，主要用作保护气
Industrial nitrogen
GB/T 3864-2008 工业氮
本标准规定了工业氮的技术要求、检验方法以及包装、标志、贮存等。 本标准适用于由分离空气制取的气态氮或液态氮，主要用作保护气、置换气、低温储藏等。 分子式:N2。 相对分子质量:28.0134（按2005年国际相对原子质量计算
Industrial nitrogen
GB/T 16944-2009 电子工业用气体.氮
本标准规定了电子工业用气体氮技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以深冷法从空气中提取的气态和液态氮，以及经电化学方法得到的氮。它们在超大规模集成电路制造中用作保护、吹扫、覆盖、加压，化学气相淀积等
Gas for electronic industry.Nitrogen
GB/T 16944-1997 电子工业用气体 氮
本标准规定了电子工业用液态和气态氮的技术要求、检验方法以及包装、标志等，适用于从分离空气或氨还原法制得的氮，在超大规模集成电路制造中用作净化、覆盖、保护、加压，也用于化学气相淀积时的载气等。 氮气化学性质不活泼，不可燃，是一种窒息性气体。 分子式：N2。 相对分子
Gases for electronic industry--Nitrogen
GB/T 14600-1993 电子工业用气体 氧化亚氮
本标准规定了电子工业用气体--瓶装氧化亚氮的技术要求、试验方法、验收规则及包装、标志、贮存与运输要求。 本标准适用于硝酸铵热分解工艺制取的氧化亚氮。该产品主要用于电子工业中二氧化硅的化学气相淀积、等离子工艺。 分子式：N2O 相对分子质量：44.01（按1989年国际相对
Gases for electronic industry. Nitrous oxide
GB/T 14600-2009 电子工业用气体.氧化亚氮
本标准规定了氧化亚氮的技术要求，试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于电子工业中化学气相淀积工艺
Gas for electronic industry.Nitrous Oxide
T/DLSHXH 002-2018 电子工业用气体 一氧化氮
本标准规定了电子工业用气体一氧化氮的技术要求、试验方法、检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于电子工业用气体一氧化氮
Gas for electronic industry—Nitric oxide
GB/T 21287-2007 电子工业用气体.三氟化氮
本标准规定了瓶装电子工业用气体——三氟化氮的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输、储存和安全。 本标准适用于电子工业用三氟化氮。它主要用作电子工业中等离子体工艺等离子体刻蚀剂和化学气相沉积的清洗剂。 分子式：NF3。 分子量：71.001 9（按2001年国际相对原子量
Gases for electronic industry.Nitrogen trifluoride
T/CHBAS 22-2022 电子工业用混合气体0.52%氮/氦
本文件规定了0.52%氮/氦混合气的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和储存的要求。 本文件适用于电子工业用0.52%氮/氦混合气（以下简称0.52%氮/氦混合气），其它组分比例的氮氦混合气可参考执行
Mixed gas 0.52% nitrogen/helium for electronic industry
HG/T 5895-2022 工业用混合气体 硅烷/氮气
Industrial mixed gas silane/nitrogen
T/CHBAS 26-2022 电子工业用混合气体4%氢/氮
本文件规定了4%氢/氮混合气的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和储存的要求。 本文件适用于电子工业用4%氢/氮混合气（以下简称4%氢/氮混合气），其它组分比例的氢氮混合气可参考执行
Mixed gas 4% hydrogen/nitrogen for electronic industry
BS 4366:1993(2011 工业氮气规范
Specification for Industrial nitrogen
TIS 175-1976 工业用氮气标准
Standard for nitrogen for industrial use
KS B 4905-1986(2023 钢的气体氮化加工
CSN ON 65 4510-1962 分析工业脱气．氮法测定
GB/T 3864-1996 工业氮
本标准规定了工业氮产品的技术要求、检验方法以及包装、标志等。本标准适用于由空气分离制取的气态氮或液态氮，其化学性质不活泼，不可燃，是一种窒息性气体，主要用作保护气
Industrial nitrogen
GB/T 3864-2008 工业氮
本标准规定了工业氮的技术要求、检验方法以及包装、标志、贮存等。 本标准适用于由分离空气制取的气态氮或液态氮，主要用作保护气、置换气、低温储藏等。 分子式:N2。 相对分子质量:28.0134（按2005年国际相对原子质量计算
Industrial nitrogen
编辑：北检院编辑部
