GB/T 18867-2002 电子工业用气体 六氟化硫
本标准规定了电子工业用气体六氟化硫产品的技术要求、分析方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于硫与氟反应生成并经精制和纯化制备的高纯度六氟化硫。该产品主要用作等离子蚀刻剂、掺杂剂、电子元器件的外延气或稀释载气等
Gases for electronic industry--Sulfur hexafluoride
GB/T 18867-2014 电子工业用气体 六氟化硫
本标准规定了六氟化硫的技术要求、试验方法、标志、包装、贮存及安全等。本标准适用于硫与氟直接反应并经精制和纯化制备的六氟化硫。该产品主要用作电子工业中化学气相沉积室的清洗剂和等离子蚀刻剂等。分子式:SF6。相对分子质量:146.0564192(按2007年国际相对原子质量计算
Gases for electronic industry.Sulphur hexaflouride
GB/T 32386-2015 电子工业用气体 六氟化钨
本标准规定了六氟化钨的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运和安全。 本标准适用于化学合成法制取并经精制纯化的六氟化钨。该产品主要用于电子工业中金属钨化学气相沉积工艺、钨材料的制备等。 分子式：WF6。 分子量：297.830 419 2(按2009年国际相对原子质量计算
Gases for electronic industry.Tungsten hexaflouride
GB/T 34091-2017 电子工业用气体 六氟乙烷
Gas for electronic industry—Hexafluoroethane
DL/T 1366-2014 电力设备用六氟化硫气体
本标准规定了电力设备用新六氟化硫气体的技术要求、试验方法、检验规则、标志、标签、包装、运输和贮存。 本标准适用于电力设备用新六氟化硫气体
Sulfur hexafluoride for electrical equipment using
GB/T 12022-2014 工业六氟化硫
本标准规定了工业六氟化硫的要求、检验规则、试验方法、包装、标志、贮运及安全警示等。本标准适用于氟与硫直接反应并经过精制的工业六氟化硫。该产品主要用作电力工业、冶金行业和气象部门等。分子式:SF6。相对分子质量:146.050 419 2(按2009年国际相对原子质量
Industrial sulfur hexafluoride
GB 12022-1989 工业六氟化硫
本标准规定了工业六氟化硫的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输和贮存。 本标准适用于硫与氟激烈反应生成并经过精制的工业六氟化硫。该产品主要用于电力工业、冶金工业和气象部门等。 分子式：SF6 分子量：146.05（按1985年国际原子量
Sulphur hexafluoride for industrial use
GB/T 12022-2006 工业六氟化硫
本标准规定了工业六氟化硫的要求、试验方法、检验规则、标志、标签、包装、运输和贮存。
本标准适用于硫与氟激烈反应生成并经过精制的工业六氟化硫。该产品主要用于电力工业、冶金工业和气象部门等。
分子式：SF
Sulphur hexafluoride for industrial use
T/CEC 140-2017 六氟化硫电气设备中六氟化硫气体纯度测量方法
本标准规定了六氟化硫电气设备中六氟化硫气体纯度测量方法。 本标准适用于六氟化硫电气设备中六氟化硫气体纯度的测量，六氟化硫混合气体的纯度测量也可参考执行
GB/T 21287-2007 电子工业用气体.三氟化氮
本标准规定了瓶装电子工业用气体——三氟化氮的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输、储存和安全。 本标准适用于电子工业用三氟化氮。它主要用作电子工业中等离子体工艺等离子体刻蚀剂和化学气相沉积的清洗剂。 分子式：NF3。 分子量：71.001 9（按2001年国际相对原子量
Gases for electronic industry.Nitrogen trifluoride
GB/T 14603-1993 电子工业用气体 三氟化硼
本标准规定了三氟化硼产品的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以氟硼酸钠为原料，采用热分解法制得的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂。 分子式：BF3 相对分子质量：67.805（按1989年国际相对原子质量
Gases for electronic industry. Boron trifluoride
GB/T 14603-2009 电子工业用气体.三氟化硼
本标准规定了电子工业用三氟化硼的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于以氟气和硼单质 为原料，采用直接化合的方法制得并经过纯化制取的三氟化硼；和以氟硼酸钠为原料热分解法制得并经过纯化制取的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂
Gases for electronic industry.Boron trifluoride
T/DLSHXH 006-2020 电子工业用气体 硫化氢
本标准规定了电子工业用气体硫化氢的要求、试验方法、检验规则及产品的标志、包装、贮运及安全要求。本标准适用于以工业硫化氢为原料经纯化制备的电子工业用气体硫化氢。电子工业用气体硫化氢主要用于半导体PV、LED、LCD、IC等领域。分子式：H2S。相对分子质量：34.08（按2011年国际相对原子质量
GB/T 31058-2014 电子工业用气体 四氟化硅
本标准规定了四氟化硅的技术要求、试验方法、标志、包装、运输和贮存等内容。本标准适用于萤石硫酸法、六氟硅酸盐热分解法、单质硅直接氟化法制备的四氟化硅。它主要用作电子工业中等离子蚀刻、发光二极管P形掺杂、离子注入工艺、外延沉积扩散的硅源和光导纤维用高纯石英玻璃的原料,也是生产多晶硅的重要原料。分子式
Gases for electronic industry.Silicon tetrafluoride
BS EN 60376:2005 电气设备用工业级六氟化硫(SF6)的规范
This International Standard defines the quality requirements and properties for technical grade sulfur hexafluoride (SF6) for use in electrical
Specification of technical grade sulfur hexafluoride (SF6) for use in electrical equipment
GB/T 18867-2002 电子工业用气体 六氟化硫
本标准规定了电子工业用气体六氟化硫产品的技术要求、分析方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于硫与氟反应生成并经精制和纯化制备的高纯度六氟化硫。该产品主要用作等离子蚀刻剂、掺杂剂、电子元器件的外延气或稀释载气等
Gases for electronic industry--Sulfur hexafluoride
GB/T 18867-2014 电子工业用气体 六氟化硫
本标准规定了六氟化硫的技术要求、试验方法、标志、包装、贮存及安全等。本标准适用于硫与氟直接反应并经精制和纯化制备的六氟化硫。该产品主要用作电子工业中化学气相沉积室的清洗剂和等离子蚀刻剂等。分子式:SF6。相对分子质量:146.0564192(按2007年国际相对原子质量计算
Gases for electronic industry.Sulphur hexaflouride
GB/T 32386-2015 电子工业用气体 六氟化钨
本标准规定了六氟化钨的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运和安全。 本标准适用于化学合成法制取并经精制纯化的六氟化钨。该产品主要用于电子工业中金属钨化学气相沉积工艺、钨材料的制备等。 分子式：WF6。 分子量：297.830 419 2(按2009年国际相对原子质量计算
Gases for electronic industry.Tungsten hexaflouride
GB/T 34091-2017 电子工业用气体 六氟乙烷
Gas for electronic industry—Hexafluoroethane
DL/T 1366-2014 电力设备用六氟化硫气体
本标准规定了电力设备用新六氟化硫气体的技术要求、试验方法、检验规则、标志、标签、包装、运输和贮存。 本标准适用于电力设备用新六氟化硫气体
Sulfur hexafluoride for electrical equipment using
GB/T 12022-2014 工业六氟化硫
本标准规定了工业六氟化硫的要求、检验规则、试验方法、包装、标志、贮运及安全警示等。本标准适用于氟与硫直接反应并经过精制的工业六氟化硫。该产品主要用作电力工业、冶金行业和气象部门等。分子式:SF6。相对分子质量:146.050 419 2(按2009年国际相对原子质量
Industrial sulfur hexafluoride
GB 12022-1989 工业六氟化硫
本标准规定了工业六氟化硫的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输和贮存。 本标准适用于硫与氟激烈反应生成并经过精制的工业六氟化硫。该产品主要用于电力工业、冶金工业和气象部门等。 分子式：SF6 分子量：146.05（按1985年国际原子量
Sulphur hexafluoride for industrial use
GB/T 12022-2006 工业六氟化硫
本标准规定了工业六氟化硫的要求、试验方法、检验规则、标志、标签、包装、运输和贮存。
本标准适用于硫与氟激烈反应生成并经过精制的工业六氟化硫。该产品主要用于电力工业、冶金工业和气象部门等。
分子式：SF
Sulphur hexafluoride for industrial use
T/CEC 140-2017 六氟化硫电气设备中六氟化硫气体纯度测量方法
本标准规定了六氟化硫电气设备中六氟化硫气体纯度测量方法。 本标准适用于六氟化硫电气设备中六氟化硫气体纯度的测量，六氟化硫混合气体的纯度测量也可参考执行
GB/T 21287-2007 电子工业用气体.三氟化氮
本标准规定了瓶装电子工业用气体——三氟化氮的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输、储存和安全。 本标准适用于电子工业用三氟化氮。它主要用作电子工业中等离子体工艺等离子体刻蚀剂和化学气相沉积的清洗剂。 分子式：NF3。 分子量：71.001 9（按2001年国际相对原子量
Gases for electronic industry.Nitrogen trifluoride
GB/T 14603-1993 电子工业用气体 三氟化硼
本标准规定了三氟化硼产品的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以氟硼酸钠为原料，采用热分解法制得的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂。 分子式：BF3 相对分子质量：67.805（按1989年国际相对原子质量
Gases for electronic industry. Boron trifluoride
GB/T 14603-2009 电子工业用气体.三氟化硼
本标准规定了电子工业用三氟化硼的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于以氟气和硼单质 为原料，采用直接化合的方法制得并经过纯化制取的三氟化硼；和以氟硼酸钠为原料热分解法制得并经过纯化制取的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂
Gases for electronic industry.Boron trifluoride
T/DLSHXH 006-2020 电子工业用气体 硫化氢
本标准规定了电子工业用气体硫化氢的要求、试验方法、检验规则及产品的标志、包装、贮运及安全要求。本标准适用于以工业硫化氢为原料经纯化制备的电子工业用气体硫化氢。电子工业用气体硫化氢主要用于半导体PV、LED、LCD、IC等领域。分子式：H2S。相对分子质量：34.08（按2011年国际相对原子质量
GB/T 31058-2014 电子工业用气体 四氟化硅
本标准规定了四氟化硅的技术要求、试验方法、标志、包装、运输和贮存等内容。本标准适用于萤石硫酸法、六氟硅酸盐热分解法、单质硅直接氟化法制备的四氟化硅。它主要用作电子工业中等离子蚀刻、发光二极管P形掺杂、离子注入工艺、外延沉积扩散的硅源和光导纤维用高纯石英玻璃的原料,也是生产多晶硅的重要原料。分子式
Gases for electronic industry.Silicon tetrafluoride
BS EN 60376:2005 电气设备用工业级六氟化硫(SF6)的规范
This International Standard defines the quality requirements and properties for technical grade sulfur hexafluoride (SF6) for use in electrical
Specification of technical grade sulfur hexafluoride (SF6) for use in electrical equipment
编辑：北检院编辑部
