发布时间：2024-05-27 17:49:26 - 更新时间：2024年06月29日 15:22
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本标准规定了八氟丙烷的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运和安全。 本标准适用于六氟丙烯或七氟丙烷氟化制备，并通过精馏、吸附、催化等工艺提纯的八氟丙烷产品，以及碳和氟直接反应法合成的八氟丙烷产品。它在电子工业等离子蚀刻工艺中作为蚀刻气体或清洗气体。 分子式：C3F8。 相对分子
Gas for electronic industry.Perfluoropropane
Gas for electronic industry—Trifluoromethane
Gas for electronic industry—Hexafluoroethane
本文件规定了工业用八氟环丁烷的术语和定义、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、安全和质量承诺。 本文件适用于由二氟一氯甲烷（HCFC-22）裂解生成四氟乙烯、再由四氟乙烯或四氟乙烯与八氟环丁烷共裂解、洗涤、压缩、精馏纯化制备的工业用八氟环丁烷。 化学名称：八氟环丁烷
Octafluorocyclobutane for industry use
本标准规定了工业用八氟环丁烷的要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存和安全。 本标准适用于由四氟乙烯及六氟丙烯生产过程中的副产物粗八氟环丁烷经精馏、干燥等过程得到的八氟环丁烷。生产过程中的副产物粗八氟环丁烷经精馏、干燥等过程得到的八氟环丁烷。 分子式：C4F8 分子量：200
本标准规定了电子级八氟环丁烷产品的分类和型号，技术要求，试验方法，检验规则，标志、包装、运输、贮存等。 本标准适用于工业八氟环丁烷通过吸附纯化、精馏提纯生产的电子级八氟环丁烷产品。该产品是电子行业蚀刻气体
Electronic grade perfluorocyclobutane
本标准规定了锗烷的技术要求、试验方法、标志、包装、贮运和安全。 本标准适用于氯化锗还原、电解氧化锗的硫酸溶液、锗镁合金与盐酸反应等方法得到的锗烷产品。 它用于化学试剂、制取高纯度锗、化学气相淀积、扩散、非晶硅、外延、离子注入等领域。 分子式：GeH4。 相对分子质量：76.662（按
Gas for electronic industry.Germane
Gas for electronic industry—Silane
本标准规定了电子工业用硅烷气体的技术要求、检验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存和安全要求等。 本标准主要用于电子工业中多晶硅和单晶硅外延淀积、二氧化硅的低温化学汽相淀积、非晶硅薄膜淀积等。 分子式：SiH4 相对分子质量：32.117（按1991年国际相对原子质量
Gas for electronic industry--Silane
本标准规定了硅烷气体的技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于电子工业中多晶硅和单晶硅外延淀积、二氧化硅的低温化学汽相淀积、非晶硅薄膜淀积等
Gas for electronic industry-Silane
Gas for electronic industry—Propylene
1,1,1,3,3-Pentafluoropropane(HFC-245fa) for industrial use
本标准规定了电子工业用气体六氟化硫产品的技术要求、分析方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于硫与氟反应生成并经精制和纯化制备的高纯度六氟化硫。该产品主要用作等离子蚀刻剂、掺杂剂、电子元器件的外延气或稀释载气等
Gases for electronic industry--Sulfur hexafluoride
本标准规定了六氟化硫的技术要求、试验方法、标志、包装、贮存及安全等。本标准适用于硫与氟直接反应并经精制和纯化制备的六氟化硫。该产品主要用作电子工业中化学气相沉积室的清洗剂和等离子蚀刻剂等。分子式:SF6。相对分子质量:146.0564192(按2007年国际相对原子质量计算
Gases for electronic industry.Sulphur hexaflouride
本标准规定了八氟丙烷的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运和安全。 本标准适用于六氟丙烯或七氟丙烷氟化制备，并通过精馏、吸附、催化等工艺提纯的八氟丙烷产品，以及碳和氟直接反应法合成的八氟丙烷产品。它在电子工业等离子蚀刻工艺中作为蚀刻气体或清洗气体。 分子式：C3F8。 相对分子
Gas for electronic industry.Perfluoropropane
Gas for electronic industry—Trifluoromethane
Gas for electronic industry—Hexafluoroethane
本文件规定了工业用八氟环丁烷的术语和定义、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、安全和质量承诺。 本文件适用于由二氟一氯甲烷（HCFC-22）裂解生成四氟乙烯、再由四氟乙烯或四氟乙烯与八氟环丁烷共裂解、洗涤、压缩、精馏纯化制备的工业用八氟环丁烷。 化学名称：八氟环丁烷
Octafluorocyclobutane for industry use
本标准规定了工业用八氟环丁烷的要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存和安全。 本标准适用于由四氟乙烯及六氟丙烯生产过程中的副产物粗八氟环丁烷经精馏、干燥等过程得到的八氟环丁烷。生产过程中的副产物粗八氟环丁烷经精馏、干燥等过程得到的八氟环丁烷。 分子式：C4F8 分子量：200
本标准规定了电子级八氟环丁烷产品的分类和型号，技术要求，试验方法，检验规则，标志、包装、运输、贮存等。 本标准适用于工业八氟环丁烷通过吸附纯化、精馏提纯生产的电子级八氟环丁烷产品。该产品是电子行业蚀刻气体
Electronic grade perfluorocyclobutane
本标准规定了锗烷的技术要求、试验方法、标志、包装、贮运和安全。 本标准适用于氯化锗还原、电解氧化锗的硫酸溶液、锗镁合金与盐酸反应等方法得到的锗烷产品。 它用于化学试剂、制取高纯度锗、化学气相淀积、扩散、非晶硅、外延、离子注入等领域。 分子式：GeH4。 相对分子质量：76.662（按
Gas for electronic industry.Germane
Gas for electronic industry—Silane
本标准规定了电子工业用硅烷气体的技术要求、检验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存和安全要求等。 本标准主要用于电子工业中多晶硅和单晶硅外延淀积、二氧化硅的低温化学汽相淀积、非晶硅薄膜淀积等。 分子式：SiH4 相对分子质量：32.117（按1991年国际相对原子质量
Gas for electronic industry--Silane
本标准规定了硅烷气体的技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于电子工业中多晶硅和单晶硅外延淀积、二氧化硅的低温化学汽相淀积、非晶硅薄膜淀积等
Gas for electronic industry-Silane
Gas for electronic industry—Propylene
1,1,1,3,3-Pentafluoropropane(HFC-245fa) for industrial use
本标准规定了电子工业用气体六氟化硫产品的技术要求、分析方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于硫与氟反应生成并经精制和纯化制备的高纯度六氟化硫。该产品主要用作等离子蚀刻剂、掺杂剂、电子元器件的外延气或稀释载气等
Gases for electronic industry--Sulfur hexafluoride
本标准规定了六氟化硫的技术要求、试验方法、标志、包装、贮存及安全等。本标准适用于硫与氟直接反应并经精制和纯化制备的六氟化硫。该产品主要用作电子工业中化学气相沉积室的清洗剂和等离子蚀刻剂等。分子式:SF6。相对分子质量:146.0564192(按2007年国际相对原子质量计算
Gases for electronic industry.Sulphur hexaflouride
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