GB/T 34091-2017 电子工业用气体 六氟乙烷
Gas for electronic industry—Hexafluoroethane
GB/T 31986-2015 电子工业用气体 八氟丙烷
本标准规定了八氟丙烷的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运和安全。 本标准适用于六氟丙烯或七氟丙烷氟化制备，并通过精馏、吸附、催化等工艺提纯的八氟丙烷产品，以及碳和氟直接反应法合成的八氟丙烷产品。它在电子工业等离子蚀刻工艺中作为蚀刻气体或清洗气体。 分子式：C3F8。 相对分子
Gas for electronic industry.Perfluoropropane
GB/T 34085-2017 电子工业用气体 三氟甲烷
Gas for electronic industry—Trifluoromethane
GB/T 18867-2002 电子工业用气体 六氟化硫
本标准规定了电子工业用气体六氟化硫产品的技术要求、分析方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于硫与氟反应生成并经精制和纯化制备的高纯度六氟化硫。该产品主要用作等离子蚀刻剂、掺杂剂、电子元器件的外延气或稀释载气等
Gases for electronic industry--Sulfur hexafluoride
GB/T 18867-2014 电子工业用气体 六氟化硫
本标准规定了六氟化硫的技术要求、试验方法、标志、包装、贮存及安全等。本标准适用于硫与氟直接反应并经精制和纯化制备的六氟化硫。该产品主要用作电子工业中化学气相沉积室的清洗剂和等离子蚀刻剂等。分子式:SF6。相对分子质量:146.0564192(按2007年国际相对原子质量计算
Gases for electronic industry.Sulphur hexaflouride
GB/T 32386-2015 电子工业用气体 六氟化钨
本标准规定了六氟化钨的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运和安全。 本标准适用于化学合成法制取并经精制纯化的六氟化钨。该产品主要用于电子工业中金属钨化学气相沉积工艺、钨材料的制备等。 分子式：WF6。 分子量：297.830 419 2(按2009年国际相对原子质量计算
Gases for electronic industry.Tungsten hexaflouride
DL/T 920-2019 六氟化硫气体中空气、四氟化碳、六氟乙烷和八氟丙烷的测定 气相色谱法
GB/T 31987-2015 电子工业用气体 锗烷
本标准规定了锗烷的技术要求、试验方法、标志、包装、贮运和安全。 本标准适用于氯化锗还原、电解氧化锗的硫酸溶液、锗镁合金与盐酸反应等方法得到的锗烷产品。 它用于化学试剂、制取高纯度锗、化学气相淀积、扩散、非晶硅、外延、离子注入等领域。 分子式：GeH4。 相对分子质量：76.662（按
Gas for electronic industry.Germane
GB/T 15909-2017 电子工业用气体 硅烷
Gas for electronic industry—Silane
GB/T 15909-1995 电子工业用气体 硅烷(SiH4)
本标准规定了电子工业用硅烷气体的技术要求、检验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存和安全要求等。 本标准主要用于电子工业中多晶硅和单晶硅外延淀积、二氧化硅的低温化学汽相淀积、非晶硅薄膜淀积等。 分子式：SiH4 相对分子质量：32.117（按1991年国际相对原子质量
Gas for electronic industry--Silane
HG/T 3261-2002 工业用六氯乙烷
本标准规定了工业用六氯乙烷的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、安全等。 本标准适用于天然气热氯化法生产四氯化碳的釜液回收和四氯乙烯经氯化结晶干燥生产的工业用六氯乙烷。该产品用于有机合成的原料，冶炼铝及其合金的脱气剂、发烟剂等
Hexachloroethane for industial ues
GB/T 15909-2009 电子工业用气体.硅烷(SiH4)
本标准规定了硅烷气体的技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于电子工业中多晶硅和单晶硅外延淀积、二氧化硅的低温化学汽相淀积、非晶硅薄膜淀积等
Gas for electronic industry-Silane
HG/T 4633-2014 工业用五氟乙烷(HFC-125)
本标准规定了工业用五氟乙烷(HFC-125,亦可简称为R125)的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存和安全。本标准适用于以四氯乙烯(PCE)、三氯乙烯(TCE)或四氟乙烯(TFE)为原料,与水氟化氢反应,精制而得工业用五氟乙烷(HFC-125)。该产品用于制冷剂、灭火剂、发泡剂
Pentafluoroethane (HFC-125) for industrial use
GB/T 21287-2007 电子工业用气体.三氟化氮
本标准规定了瓶装电子工业用气体——三氟化氮的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输、储存和安全。 本标准适用于电子工业用三氟化氮。它主要用作电子工业中等离子体工艺等离子体刻蚀剂和化学气相沉积的清洗剂。 分子式：NF3。 分子量：71.001 9（按2001年国际相对原子量
Gases for electronic industry.Nitrogen trifluoride
GB/T 14603-1993 电子工业用气体 三氟化硼
本标准规定了三氟化硼产品的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以氟硼酸钠为原料，采用热分解法制得的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂。 分子式：BF3 相对分子质量：67.805（按1989年国际相对原子质量
Gases for electronic industry. Boron trifluoride
GB/T 34091-2017 电子工业用气体 六氟乙烷
Gas for electronic industry—Hexafluoroethane
GB/T 31986-2015 电子工业用气体 八氟丙烷
本标准规定了八氟丙烷的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运和安全。 本标准适用于六氟丙烯或七氟丙烷氟化制备，并通过精馏、吸附、催化等工艺提纯的八氟丙烷产品，以及碳和氟直接反应法合成的八氟丙烷产品。它在电子工业等离子蚀刻工艺中作为蚀刻气体或清洗气体。 分子式：C3F8。 相对分子
Gas for electronic industry.Perfluoropropane
GB/T 34085-2017 电子工业用气体 三氟甲烷
Gas for electronic industry—Trifluoromethane
GB/T 18867-2002 电子工业用气体 六氟化硫
本标准规定了电子工业用气体六氟化硫产品的技术要求、分析方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于硫与氟反应生成并经精制和纯化制备的高纯度六氟化硫。该产品主要用作等离子蚀刻剂、掺杂剂、电子元器件的外延气或稀释载气等
Gases for electronic industry--Sulfur hexafluoride
GB/T 18867-2014 电子工业用气体 六氟化硫
本标准规定了六氟化硫的技术要求、试验方法、标志、包装、贮存及安全等。本标准适用于硫与氟直接反应并经精制和纯化制备的六氟化硫。该产品主要用作电子工业中化学气相沉积室的清洗剂和等离子蚀刻剂等。分子式:SF6。相对分子质量:146.0564192(按2007年国际相对原子质量计算
Gases for electronic industry.Sulphur hexaflouride
GB/T 32386-2015 电子工业用气体 六氟化钨
本标准规定了六氟化钨的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运和安全。 本标准适用于化学合成法制取并经精制纯化的六氟化钨。该产品主要用于电子工业中金属钨化学气相沉积工艺、钨材料的制备等。 分子式：WF6。 分子量：297.830 419 2(按2009年国际相对原子质量计算
Gases for electronic industry.Tungsten hexaflouride
DL/T 920-2019 六氟化硫气体中空气、四氟化碳、六氟乙烷和八氟丙烷的测定 气相色谱法
GB/T 31987-2015 电子工业用气体 锗烷
本标准规定了锗烷的技术要求、试验方法、标志、包装、贮运和安全。 本标准适用于氯化锗还原、电解氧化锗的硫酸溶液、锗镁合金与盐酸反应等方法得到的锗烷产品。 它用于化学试剂、制取高纯度锗、化学气相淀积、扩散、非晶硅、外延、离子注入等领域。 分子式：GeH4。 相对分子质量：76.662（按
Gas for electronic industry.Germane
GB/T 15909-2017 电子工业用气体 硅烷
Gas for electronic industry—Silane
GB/T 15909-1995 电子工业用气体 硅烷(SiH4)
本标准规定了电子工业用硅烷气体的技术要求、检验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存和安全要求等。 本标准主要用于电子工业中多晶硅和单晶硅外延淀积、二氧化硅的低温化学汽相淀积、非晶硅薄膜淀积等。 分子式：SiH4 相对分子质量：32.117（按1991年国际相对原子质量
Gas for electronic industry--Silane
HG/T 3261-2002 工业用六氯乙烷
本标准规定了工业用六氯乙烷的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、安全等。 本标准适用于天然气热氯化法生产四氯化碳的釜液回收和四氯乙烯经氯化结晶干燥生产的工业用六氯乙烷。该产品用于有机合成的原料，冶炼铝及其合金的脱气剂、发烟剂等
Hexachloroethane for industial ues
GB/T 15909-2009 电子工业用气体.硅烷(SiH4)
本标准规定了硅烷气体的技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于电子工业中多晶硅和单晶硅外延淀积、二氧化硅的低温化学汽相淀积、非晶硅薄膜淀积等
Gas for electronic industry-Silane
HG/T 4633-2014 工业用五氟乙烷(HFC-125)
本标准规定了工业用五氟乙烷(HFC-125,亦可简称为R125)的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存和安全。本标准适用于以四氯乙烯(PCE)、三氯乙烯(TCE)或四氟乙烯(TFE)为原料,与水氟化氢反应,精制而得工业用五氟乙烷(HFC-125)。该产品用于制冷剂、灭火剂、发泡剂
Pentafluoroethane (HFC-125) for industrial use
GB/T 21287-2007 电子工业用气体.三氟化氮
本标准规定了瓶装电子工业用气体——三氟化氮的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输、储存和安全。 本标准适用于电子工业用三氟化氮。它主要用作电子工业中等离子体工艺等离子体刻蚀剂和化学气相沉积的清洗剂。 分子式：NF3。 分子量：71.001 9（按2001年国际相对原子量
Gases for electronic industry.Nitrogen trifluoride
GB/T 14603-1993 电子工业用气体 三氟化硼
本标准规定了三氟化硼产品的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以氟硼酸钠为原料，采用热分解法制得的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂。 分子式：BF3 相对分子质量：67.805（按1989年国际相对原子质量
Gases for electronic industry. Boron trifluoride
编辑：北检院编辑部
