电子工业用气体 氧化亚氮检测

GB/T 14600-2009 电子工业用气体.氧化亚氮

本标准规定了氧化亚氮的技术要求，试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于电子工业中化学气相淀积工艺

Gas for electronic industry.Nitrous Oxide

GB/T 14600-1993 电子工业用气体 氧化亚氮

本标准规定了电子工业用气体--瓶装氧化亚氮的技术要求、试验方法、验收规则及包装、标志、贮存与运输要求。 本标准适用于硝酸铵热分解工艺制取的氧化亚氮。该产品主要用于电子工业中二氧化硅的化学气相淀积、等离子工艺。 分子式：N2O 相对分子质量：44.01（按1989年国际相对

Gases for electronic industry. Nitrous oxide

T/DLSHXH 002-2018 电子工业用气体 一氧化氮

本标准规定了电子工业用气体一氧化氮的技术要求、试验方法、检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于电子工业用气体一氧化氮

Gas for electronic industry—Nitric oxide

GB/T 21287-2007 电子工业用气体.三氟化氮

本标准规定了瓶装电子工业用气体——三氟化氮的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输、储存和安全。 本标准适用于电子工业用三氟化氮。它主要用作电子工业中等离子体工艺等离子体刻蚀剂和化学气相沉积的清洗剂。 分子式：NF₃。 分子量：71.001 9（按2001年国际相对原子量

Gases for electronic industry.Nitrogen trifluoride

GB/T 16944-2009 电子工业用气体.氮

本标准规定了电子工业用气体氮技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以深冷法从空气中提取的气态和液态氮，以及经电化学方法得到的氮。它们在超大规模集成电路制造中用作保护、吹扫、覆盖、加压，化学气相淀积等

Gas for electronic industry.Nitrogen

GB/T 16944-1997 电子工业用气体 氮

本标准规定了电子工业用液态和气态氮的技术要求、检验方法以及包装、标志等，适用于从分离空气或氨还原法制得的氮，在超大规模集成电路制造中用作净化、覆盖、保护、加压，也用于化学气相淀积时的载气等。 氮气化学性质不活泼，不可燃，是一种窒息性气体。 分子式：N₂。 相对分子

Gases for electronic industry--Nitrogen

T/CCGA 30002-2019 超纯氧化亚氮

本标准规定了超纯氧化亚氮产品的技术要求，试验方法，检验规则，标志、包装、运输、贮存等。 本标准适用于已二酸尾气和硝酸铵分解中生成的氧化亚氮经吸附纯化、精馏提纯生产的超纯氧化亚氮

Ultra pure nitrous oxide

T/DLSHXH 007-2020 电子工业用气体 氧硫化碳

本标准规定了电子工业用气体氧硫化碳的技术要求、试验方法、检验规则及产品的标志、包装、贮运及安全要求。本标准适用于于以工业氧硫化碳为原料经纯化制备的电子工业用气体氧硫化碳。电子工业用气体氧硫化碳主要用于集成电路领域。分子式：COS。相对分子质量：60.07（按2011年国际相对原子质量

Carbon oxysulfide gas for electronics industry

T/DLSHXH 004-2020 电子工业用气体 二氧化碳

本标准规定了电子工业用气体二氧化碳的要求、试验方法以及包装、标志、贮运及安全警示。本标准适用于以工业二氧化碳为原料经纯化制备的电子工业用气体二氧化碳。电子工业用气体二氧化碳主要用于激光、电子工业、反应堆气体冷却剂、科学研究等领域。分子式：CO2。相对分子质量：44.0095（按2011年国际相对

Carbon dioxide gas for electronics industry

SJ/T 11517-2015 电子工业用气体 一氧化碳

本标准规定了一氧化碳的技术要求,试验方法以及包装、标志、贮运及安全。本标准适用于甲酸脱水、甲酸甲酯选择分解、木炭还原二氧化碳、甲醇裂解或使用天然气、轻油、重质液态烃、焦炭、煤等含碳物质为原料经过氧化、蒸汽转化或二氧化碳还原等不同工艺过程获得并经精制得到的一氧化碳产品。它在多晶态钻石膜生产中,为化学气

Gases for electronic industry-Carbon monoxide

GB/T 14604-1993 电子工业用气体 氧

本标准规定了电子工业用气体氧和散装液态氧的技术要求，检验方法，检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 电子工业用氧主要用于二氧化硅化学气相淀积，用作氧化源和生产高纯水的反应剂，用于等离子体蚀刻和剥离。也可用于光导纤维。 分子式：O2 相对分子质量：31.999

Gases for electronic industry. Oxygen

GB/T 14604-2009 电子工业用气体.氧

本标准规定了电子工业用氧的技术要求，试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以深冷法、电解法提取的气态或液态氧，以及经纯化方法得到的氧。他们主要用于二氧化硅化学气相淀积，用作氧化源和生产高纯水的反应剂，用于等离子体蚀刻和剥离、光导纤维

Gas for electronic industry.Oxygen

HG 2685-1995 医用氧化亚氮

本标准规定了医用氧化亚氮的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、贮存及运输。 本标准适用于硝酸铵热分解工艺制取的氧化亚氮。用于手术麻醉、镇痛等医疗目的。 分子式：N|(2)O 相对分子质量：44.01(按1991年国际相对原子质量

Medical Nitrous Oxide

GB/T 28729-2012 氧化亚氮

本标准规定了氧化亚氮的技术要求、试验方法、包装、标志、贮存及运输，给出了安全警示。 本标准适用于硝酸铵热分解工艺制取的氧化亚氮，主要用作制冷剂、助燃剂、防腐剂、麻醉剂、压力推进剂，此外，也用于化工、半导体制造和原子吸收光谱等领域。 分子式：N₂O。 相对分子质量：44.012 88（按

Nitrous oxide

T/CHBAS 22-2022 电子工业用混合气体0.52%氮/氦

本文件规定了0.52%氮/氦混合气的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和储存的要求。 本文件适用于电子工业用0.52%氮/氦混合气（以下简称0.52%氮/氦混合气），其它组分比例的氮氦混合气可参考执行

Mixed gas 0.52% nitrogen/helium for electronic industry

GB/T 14600-2009 电子工业用气体.氧化亚氮

本标准规定了氧化亚氮的技术要求，试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于电子工业中化学气相淀积工艺

Gas for electronic industry.Nitrous Oxide

GB/T 14600-1993 电子工业用气体 氧化亚氮

本标准规定了电子工业用气体--瓶装氧化亚氮的技术要求、试验方法、验收规则及包装、标志、贮存与运输要求。 本标准适用于硝酸铵热分解工艺制取的氧化亚氮。该产品主要用于电子工业中二氧化硅的化学气相淀积、等离子工艺。 分子式：N2O 相对分子质量：44.01（按1989年国际相对

Gases for electronic industry. Nitrous oxide

T/DLSHXH 002-2018 电子工业用气体 一氧化氮

本标准规定了电子工业用气体一氧化氮的技术要求、试验方法、检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于电子工业用气体一氧化氮

Gas for electronic industry—Nitric oxide

GB/T 21287-2007 电子工业用气体.三氟化氮

本标准规定了瓶装电子工业用气体——三氟化氮的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输、储存和安全。 本标准适用于电子工业用三氟化氮。它主要用作电子工业中等离子体工艺等离子体刻蚀剂和化学气相沉积的清洗剂。 分子式：NF₃。 分子量：71.001 9（按2001年国际相对原子量

Gases for electronic industry.Nitrogen trifluoride

GB/T 16944-2009 电子工业用气体.氮

本标准规定了电子工业用气体氮技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以深冷法从空气中提取的气态和液态氮，以及经电化学方法得到的氮。它们在超大规模集成电路制造中用作保护、吹扫、覆盖、加压，化学气相淀积等

Gas for electronic industry.Nitrogen

GB/T 16944-1997 电子工业用气体 氮

本标准规定了电子工业用液态和气态氮的技术要求、检验方法以及包装、标志等，适用于从分离空气或氨还原法制得的氮，在超大规模集成电路制造中用作净化、覆盖、保护、加压，也用于化学气相淀积时的载气等。 氮气化学性质不活泼，不可燃，是一种窒息性气体。 分子式：N₂。 相对分子

Gases for electronic industry--Nitrogen

T/CCGA 30002-2019 超纯氧化亚氮

本标准规定了超纯氧化亚氮产品的技术要求，试验方法，检验规则，标志、包装、运输、贮存等。 本标准适用于已二酸尾气和硝酸铵分解中生成的氧化亚氮经吸附纯化、精馏提纯生产的超纯氧化亚氮

Ultra pure nitrous oxide

T/DLSHXH 007-2020 电子工业用气体 氧硫化碳

本标准规定了电子工业用气体氧硫化碳的技术要求、试验方法、检验规则及产品的标志、包装、贮运及安全要求。本标准适用于于以工业氧硫化碳为原料经纯化制备的电子工业用气体氧硫化碳。电子工业用气体氧硫化碳主要用于集成电路领域。分子式：COS。相对分子质量：60.07（按2011年国际相对原子质量

Carbon oxysulfide gas for electronics industry

T/DLSHXH 004-2020 电子工业用气体 二氧化碳

本标准规定了电子工业用气体二氧化碳的要求、试验方法以及包装、标志、贮运及安全警示。本标准适用于以工业二氧化碳为原料经纯化制备的电子工业用气体二氧化碳。电子工业用气体二氧化碳主要用于激光、电子工业、反应堆气体冷却剂、科学研究等领域。分子式：CO2。相对分子质量：44.0095（按2011年国际相对

Carbon dioxide gas for electronics industry

SJ/T 11517-2015 电子工业用气体 一氧化碳

本标准规定了一氧化碳的技术要求,试验方法以及包装、标志、贮运及安全。本标准适用于甲酸脱水、甲酸甲酯选择分解、木炭还原二氧化碳、甲醇裂解或使用天然气、轻油、重质液态烃、焦炭、煤等含碳物质为原料经过氧化、蒸汽转化或二氧化碳还原等不同工艺过程获得并经精制得到的一氧化碳产品。它在多晶态钻石膜生产中,为化学气

Gases for electronic industry-Carbon monoxide

GB/T 14604-1993 电子工业用气体 氧

本标准规定了电子工业用气体氧和散装液态氧的技术要求，检验方法，检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 电子工业用氧主要用于二氧化硅化学气相淀积，用作氧化源和生产高纯水的反应剂，用于等离子体蚀刻和剥离。也可用于光导纤维。 分子式：O2 相对分子质量：31.999

Gases for electronic industry. Oxygen

GB/T 14604-2009 电子工业用气体.氧

本标准规定了电子工业用氧的技术要求，试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以深冷法、电解法提取的气态或液态氧，以及经纯化方法得到的氧。他们主要用于二氧化硅化学气相淀积，用作氧化源和生产高纯水的反应剂，用于等离子体蚀刻和剥离、光导纤维

Gas for electronic industry.Oxygen

HG 2685-1995 医用氧化亚氮

本标准规定了医用氧化亚氮的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、贮存及运输。 本标准适用于硝酸铵热分解工艺制取的氧化亚氮。用于手术麻醉、镇痛等医疗目的。 分子式：N|(2)O 相对分子质量：44.01(按1991年国际相对原子质量

Medical Nitrous Oxide

GB/T 28729-2012 氧化亚氮

本标准规定了氧化亚氮的技术要求、试验方法、包装、标志、贮存及运输，给出了安全警示。 本标准适用于硝酸铵热分解工艺制取的氧化亚氮，主要用作制冷剂、助燃剂、防腐剂、麻醉剂、压力推进剂，此外，也用于化工、半导体制造和原子吸收光谱等领域。 分子式：N₂O。 相对分子质量：44.012 88（按

Nitrous oxide

T/CHBAS 22-2022 电子工业用混合气体0.52%氮/氦

本文件规定了0.52%氮/氦混合气的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和储存的要求。 本文件适用于电子工业用0.52%氮/氦混合气（以下简称0.52%氮/氦混合气），其它组分比例的氮氦混合气可参考执行

Mixed gas 0.52% nitrogen/helium for electronic industry