发布时间：2024-05-27 17:49:26 - 更新时间：2024年06月29日 15:22
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本标准规定了氯化氢的技术要求、试验方法、标志、包装、贮运及安全。本标准适用于以工业氯化氢为原料,采用纯化制得的氯化氢产品。该产品主要用于微电子工业中气相抛光、外延和刻蚀工艺,也可用于硬质合金、玻璃表面处理、医药中间体和精细化学品制造、科学研究等领域。分子式:HCl。相对分子质量:36.458(按
Gases for electronic industry.Hydrogen chloride
本标准规定了氯化氢的技术要求、检验方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以氢、氯为原料合成的氯化氢和以工业氯化氢为原料经净化制得的瓶装液态氯化氢。 氯化氢主要用于电子工业，在集成电路生产中用于蚀刻、钝化、外延等工艺。也可用于金属冶炼、光导通讯和科学研究
Gases for electronic industry. Hydrogen chloride
本标准规定了电子工业用气体5N氯化氢的技术要求、检验方法、检验规则以及包装、标志、运输、储存、充装、分装和安全要求。 本标准适用于以工业氯化氢为原料经净化制得的瓶装液化氯化氢。 氯化氢主要用于微电子工业半导体器件生产中单晶硅片气相抛光、外延和基座腐蚀工艺。也可用于硬质合金和玻璃表面处理、医药
Gas for electronic industry.5N hydrogen chloride
本标准规定了电子工业用气体硫化氢的要求、试验方法、检验规则及产品的标志、包装、贮运及安全要求。本标准适用于以工业硫化氢为原料经纯化制备的电子工业用气体硫化氢。电子工业用气体硫化氢主要用于半导体PV、LED、LCD、IC等领域。分子式：H2S。相对分子质量：34.08（按2011年国际相对原子质量
Hydrogen sulfide gas for electronics industry
本标准规定了电子工业用磷化氢的技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于亚磷酸热分解、磷化物水解、单质磷与水或碱反应等方法获得并经精制得到的磷化氢产品。它主要用于半导体器件和集成电路生产的外延、离子注入和掺杂
Gas for electronic industry.Phosphine
本标准规定了磷化氢产品的技术要求、试验方法、检验规则、安全要求以及包装、标志、运输与贮存。 本标准适用于亚磷酸热分解、磷化物水解、单质磷与水或碱反应等方法获得并经精制得到的磷化氢产品。它主要用于半导体器件和集成电路生产的外延、离子注入和掺杂。磷化氢是一种剧毒、可燃、具有腐鱼味的色气体
Gas for electronic industry.Phosphine
本标准规定了砷化氢的技术要求，试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于砷化合物与酸反应获得的砷化氢。在半导体器件制备过程中，砷化氢用于掺杂以及化合物半导体外延
Gases for electronic industry.Arsine
本标准规定了硒化氧的技术要求,试验方法以及包装、标志\迪运及安全。 本标准适用于硒铝、硒镁合金化合物水解单质硒与氢高温反应等方法获得并经精制得到的硒化氢产品。 它主要用于太阳能电池、半导体和集成电路生产的外延、离子注人和挨杂。 分子式:HsSe。 相对分子质量:80.975 88(按2007 年国际
Gases for electronic industry.Hydrogen selenide
本标准规定了电子工业用氢的技术要求、试验方法和包装、标志、安全等。 本标准适用于以工业氢为原料经纯化制取的钢瓶装氢气。氢主要被用来提供还原气氛，作为外延工艺的载气以及等离子体蚀刻剂的配气原料。 分子式：H2 相对分子质量：2.016（按1991年国际相对原子质量
Gases for electronic industry--Hydrogen
本标准规定了三氯化硼的技术要求,试验方法以及包装标志、贮运及安全。 本标准适用于以粗制三氧化硼为原料,采用吸附、精馏等方法提纯制得的三氧化硼,主要用于半导体器件生产所用的扩散、离子注人、干法蚀刻等工艺。 分子式:BCl 。 相对分子质量:117.1691(按2007 年国际相对原子质量计算
Gases for electronic industry.Boron trichloride
本标准规定了电子工业用三氯化硼气体的要求、检验方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以粗制三氯化硼为原料，采用吸附、蒸馏的方法提纯制得的三氯化硼，主要用于电子工业硅半导体器件和集成电路生产所用的扩散、离子注入、干法蚀刻等工艺
Gases for electronic industry--Boron Trichloride
本标准规定了电子工业用氢技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以氢气为原料经净化制取的瓶装、集装格装和管道输送的电子工业用氢气。它们主要被用来提供还原气氛，作为外延工艺的载气以及等离子体蚀刻剂的配气原料
Gas for electronic industry.Hydrogen
本标准规定了瓶装电子工业用气体——三氟化氮的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输、储存和安全。 本标准适用于电子工业用三氟化氮。它主要用作电子工业中等离子体工艺等离子体刻蚀剂和化学气相沉积的清洗剂。 分子式：NF3。 分子量：71.001 9（按2001年国际相对原子量
Gases for electronic industry.Nitrogen trifluoride
本标准规定了高纯氯的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输和储存。本标准适用于以工业液氯为原料,采用物理吸附等过程生产的高纯氯产品。该产品主要用于大规模集成电路、光导纤维、高温超导、平板显示器、太阳能等技术领域。分子式:Cl2。相对分子质量:70.90(按2009年国际相对原子质量
Gases for electronic industry.High purity chlorine
本标准规定了电子工业用气体高纯氯产品的技术要求、试验方法、检验规则1,11t乏包装、标志、运输及贮存和安全要求。 本标准适用于以工业液氯为原料，采用物理吸附等过程生产的高纯氯产品。该产品主要用于大规模集成电路、光导纤维、高温超导、铝加工等高新技术领域。 分子式：Cl2。 相对分子
Gases for electronic industry--High purity chlorine
本标准规定了氯化氢的技术要求、试验方法、标志、包装、贮运及安全。本标准适用于以工业氯化氢为原料,采用纯化制得的氯化氢产品。该产品主要用于微电子工业中气相抛光、外延和刻蚀工艺,也可用于硬质合金、玻璃表面处理、医药中间体和精细化学品制造、科学研究等领域。分子式:HCl。相对分子质量:36.458(按
Gases for electronic industry.Hydrogen chloride
本标准规定了氯化氢的技术要求、检验方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以氢、氯为原料合成的氯化氢和以工业氯化氢为原料经净化制得的瓶装液态氯化氢。 氯化氢主要用于电子工业，在集成电路生产中用于蚀刻、钝化、外延等工艺。也可用于金属冶炼、光导通讯和科学研究
Gases for electronic industry. Hydrogen chloride
本标准规定了电子工业用气体5N氯化氢的技术要求、检验方法、检验规则以及包装、标志、运输、储存、充装、分装和安全要求。 本标准适用于以工业氯化氢为原料经净化制得的瓶装液化氯化氢。 氯化氢主要用于微电子工业半导体器件生产中单晶硅片气相抛光、外延和基座腐蚀工艺。也可用于硬质合金和玻璃表面处理、医药
Gas for electronic industry.5N hydrogen chloride
本标准规定了电子工业用气体硫化氢的要求、试验方法、检验规则及产品的标志、包装、贮运及安全要求。本标准适用于以工业硫化氢为原料经纯化制备的电子工业用气体硫化氢。电子工业用气体硫化氢主要用于半导体PV、LED、LCD、IC等领域。分子式：H2S。相对分子质量：34.08（按2011年国际相对原子质量
Hydrogen sulfide gas for electronics industry
本标准规定了电子工业用磷化氢的技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于亚磷酸热分解、磷化物水解、单质磷与水或碱反应等方法获得并经精制得到的磷化氢产品。它主要用于半导体器件和集成电路生产的外延、离子注入和掺杂
Gas for electronic industry.Phosphine
本标准规定了磷化氢产品的技术要求、试验方法、检验规则、安全要求以及包装、标志、运输与贮存。 本标准适用于亚磷酸热分解、磷化物水解、单质磷与水或碱反应等方法获得并经精制得到的磷化氢产品。它主要用于半导体器件和集成电路生产的外延、离子注入和掺杂。磷化氢是一种剧毒、可燃、具有腐鱼味的色气体
Gas for electronic industry.Phosphine
本标准规定了砷化氢的技术要求，试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于砷化合物与酸反应获得的砷化氢。在半导体器件制备过程中，砷化氢用于掺杂以及化合物半导体外延
Gases for electronic industry.Arsine
本标准规定了硒化氧的技术要求,试验方法以及包装、标志\迪运及安全。 本标准适用于硒铝、硒镁合金化合物水解单质硒与氢高温反应等方法获得并经精制得到的硒化氢产品。 它主要用于太阳能电池、半导体和集成电路生产的外延、离子注人和挨杂。 分子式:HsSe。 相对分子质量:80.975 88(按2007 年国际
Gases for electronic industry.Hydrogen selenide
本标准规定了电子工业用氢的技术要求、试验方法和包装、标志、安全等。 本标准适用于以工业氢为原料经纯化制取的钢瓶装氢气。氢主要被用来提供还原气氛，作为外延工艺的载气以及等离子体蚀刻剂的配气原料。 分子式：H2 相对分子质量：2.016（按1991年国际相对原子质量
Gases for electronic industry--Hydrogen
本标准规定了三氯化硼的技术要求,试验方法以及包装标志、贮运及安全。 本标准适用于以粗制三氧化硼为原料,采用吸附、精馏等方法提纯制得的三氧化硼,主要用于半导体器件生产所用的扩散、离子注人、干法蚀刻等工艺。 分子式:BCl 。 相对分子质量:117.1691(按2007 年国际相对原子质量计算
Gases for electronic industry.Boron trichloride
本标准规定了电子工业用三氯化硼气体的要求、检验方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以粗制三氯化硼为原料，采用吸附、蒸馏的方法提纯制得的三氯化硼，主要用于电子工业硅半导体器件和集成电路生产所用的扩散、离子注入、干法蚀刻等工艺
Gases for electronic industry--Boron Trichloride
本标准规定了电子工业用氢技术要求、试验方法及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以氢气为原料经净化制取的瓶装、集装格装和管道输送的电子工业用氢气。它们主要被用来提供还原气氛，作为外延工艺的载气以及等离子体蚀刻剂的配气原料
Gas for electronic industry.Hydrogen
本标准规定了瓶装电子工业用气体——三氟化氮的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输、储存和安全。 本标准适用于电子工业用三氟化氮。它主要用作电子工业中等离子体工艺等离子体刻蚀剂和化学气相沉积的清洗剂。 分子式：NF3。 分子量：71.001 9（按2001年国际相对原子量
Gases for electronic industry.Nitrogen trifluoride
本标准规定了高纯氯的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输和储存。本标准适用于以工业液氯为原料,采用物理吸附等过程生产的高纯氯产品。该产品主要用于大规模集成电路、光导纤维、高温超导、平板显示器、太阳能等技术领域。分子式:Cl2。相对分子质量:70.90(按2009年国际相对原子质量
Gases for electronic industry.High purity chlorine
本标准规定了电子工业用气体高纯氯产品的技术要求、试验方法、检验规则1,11t乏包装、标志、运输及贮存和安全要求。 本标准适用于以工业液氯为原料，采用物理吸附等过程生产的高纯氯产品。该产品主要用于大规模集成电路、光导纤维、高温超导、铝加工等高新技术领域。 分子式：Cl2。 相对分子
Gases for electronic industry--High purity chlorine
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