电子工业用气体 三氟化硼检测

GB/T 14603-2009 电子工业用气体.三氟化硼

本标准规定了电子工业用三氟化硼的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于以氟气和硼单质 为原料，采用直接化合的方法制得并经过纯化制取的三氟化硼；和以氟硼酸钠为原料热分解法制得并经过纯化制取的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂

Gases for electronic industry.Boron trifluoride

GB/T 14603-1993 电子工业用气体 三氟化硼

本标准规定了三氟化硼产品的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以氟硼酸钠为原料，采用热分解法制得的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂。 分子式：BF3 相对分子质量：67.805（按1989年国际相对原子质量

Gases for electronic industry. Boron trifluoride

GB/T 17874-2010 电子工业用气体 三氯化硼

本标准规定了三氯化硼的技术要求,试验方法以及包装标志、贮运及安全。 本标准适用于以粗制三氧化硼为原料,采用吸附、精馏等方法提纯制得的三氧化硼,主要用于半导体器件生产所用的扩散、离子注人、干法蚀刻等工艺。 分子式:BCl 。 相对分子质量:117.1691(按2007 年国际相对原子质量计算

Gases for electronic industry.Boron trichloride

GB/T 17874-1999 电子工业用气体 三氯化硼

本标准规定了电子工业用三氯化硼气体的要求、检验方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以粗制三氯化硼为原料，采用吸附、蒸馏的方法提纯制得的三氯化硼，主要用于电子工业硅半导体器件和集成电路生产所用的扩散、离子注入、干法蚀刻等工艺

Gases for electronic industry--Boron Trichloride

GB/T 21287-2007 电子工业用气体.三氟化氮

本标准规定了瓶装电子工业用气体——三氟化氮的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输、储存和安全。 本标准适用于电子工业用三氟化氮。它主要用作电子工业中等离子体工艺等离子体刻蚀剂和化学气相沉积的清洗剂。 分子式：NF₃。 分子量：71.001 9（按2001年国际相对原子量

Gases for electronic industry.Nitrogen trifluoride

GB/T 34085-2017 电子工业用气体 三氟甲烷

Gas for electronic industry—Trifluoromethane

GB/T 18867-2002 电子工业用气体 六氟化硫

本标准规定了电子工业用气体六氟化硫产品的技术要求、分析方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于硫与氟反应生成并经精制和纯化制备的高纯度六氟化硫。该产品主要用作等离子蚀刻剂、掺杂剂、电子元器件的外延气或稀释载气等

Gases for electronic industry--Sulfur hexafluoride

GB/T 18867-2014 电子工业用气体 六氟化硫

本标准规定了六氟化硫的技术要求、试验方法、标志、包装、贮存及安全等。 本标准适用于硫与氟直接反应并经精制和纯化制备的六氟化硫”该产品主要用作电子工业中化学气相沉积室的清洗剂和等离子蚀刻剂等。 分子式=SFs”相对分子质量j4皂O跚4192〔按2007 年国际相对原子质量计算

Gases for electronic industry.Sulphur hexaflouride

GB/T 31058-2014 电子工业用气体 四氟化硅

本标准规定了四氟化硅的技术要求、试验方法、标志、包装、运输和贮存等内容。本标准适用于萤石硫酸法、六氟硅酸盐热分解法、单质硅直接氟化法制备的四氟化硅。它主要用作电子工业中等离子蚀刻、发光二极管P形掺杂、离子注入工艺、外延沉积扩散的硅源和光导纤维用高纯石英玻璃的原料,也是生产多晶硅的重要原料。分子式

Gases for electronic industry.Silicon tetrafluoride

GB/T 32386-2015 电子工业用气体 六氟化钨

本标准规定了六氟化钨的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运和安全。 本标准适用于化学合成法制取并经精制纯化的六氟化钨。该产品主要用于电子工业中金属钨化学气相沉积工艺、钨材料的制备等。 分子式：WF₆。 分子量：297.830 419 2(按2009年国际相对原子质量计算

Gases for electronic industry.Tungsten hexaflouride

GB/T 39708-2020 三氟化硼

本文件规定了三氟化硼的技术要求.试验方法.检验规则标志、包装.运输和贮存。 本文件适用于以硼酸、氟化氢和发烟硫酸(或三氧化硫)为主要原料制得的三氟化硼。 本文件不适用于半导体制造用的三氟化硼

Boron trifluoride

GB/T 17874-2021 电子特气 三氯化硼

本文件规定了电子级三氯化硼的技术要求、检验规则、试验方法、标志、包装、运输、贮存及安全信息的要求。 本文件适用于以粗制三氯化硼为原料提纯制得的电子级三氯化硼

Electronic specialty gas—Boron trichloride

GB/T 31986-2015 电子工业用气体 八氟丙烷

本标准规定了八氟丙烷的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运和安全。 本标准适用于六氟丙烯或七氟丙烷氟化制备，并通过精馏、吸附、催化等工艺提纯的八氟丙烷产品，以及碳和氟直接反应法合成的八氟丙烷产品。它在电子工业等离子蚀刻工艺中作为蚀刻气体或清洗气体。 分子式：C₃F₈。 相对分子

Gas for electronic industry.Perfluoropropane

T/ZSM 0004-2022 工业用三氯化硼

“技术要求”章规定了三氯化硼纯度、氯气含量、四氯化硅含量、碳酰氯含量、氯化氢含量的技术要求。 “试验方法”章结合工业用三氯化硼的检测实际，规定了三氯化硼的计算公式、以及氯气、四氯化硅、碳酰氯、氯化氢的测定方法。 “检验规则”章规定了工业用三氯化硼产品的检验项目、组批、采样、检验判定以及尾气处理的

Boron trichloride used for industry

GB/T 34091-2017 电子工业用气体 六氟乙烷

Gas for electronic industry—Hexafluoroethane

GB/T 14603-2009 电子工业用气体.三氟化硼

本标准规定了电子工业用三氟化硼的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于以氟气和硼单质 为原料，采用直接化合的方法制得并经过纯化制取的三氟化硼；和以氟硼酸钠为原料热分解法制得并经过纯化制取的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂

Gases for electronic industry.Boron trifluoride

GB/T 14603-1993 电子工业用气体 三氟化硼

本标准规定了三氟化硼产品的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以氟硼酸钠为原料，采用热分解法制得的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂。 分子式：BF3 相对分子质量：67.805（按1989年国际相对原子质量

Gases for electronic industry. Boron trifluoride

GB/T 17874-2010 电子工业用气体 三氯化硼

本标准规定了三氯化硼的技术要求,试验方法以及包装标志、贮运及安全。 本标准适用于以粗制三氧化硼为原料,采用吸附、精馏等方法提纯制得的三氧化硼,主要用于半导体器件生产所用的扩散、离子注人、干法蚀刻等工艺。 分子式:BCl 。 相对分子质量:117.1691(按2007 年国际相对原子质量计算

Gases for electronic industry.Boron trichloride

GB/T 17874-1999 电子工业用气体 三氯化硼

本标准规定了电子工业用三氯化硼气体的要求、检验方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以粗制三氯化硼为原料，采用吸附、蒸馏的方法提纯制得的三氯化硼，主要用于电子工业硅半导体器件和集成电路生产所用的扩散、离子注入、干法蚀刻等工艺

Gases for electronic industry--Boron Trichloride

GB/T 21287-2007 电子工业用气体.三氟化氮

本标准规定了瓶装电子工业用气体——三氟化氮的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输、储存和安全。 本标准适用于电子工业用三氟化氮。它主要用作电子工业中等离子体工艺等离子体刻蚀剂和化学气相沉积的清洗剂。 分子式：NF₃。 分子量：71.001 9（按2001年国际相对原子量

Gases for electronic industry.Nitrogen trifluoride

GB/T 34085-2017 电子工业用气体 三氟甲烷

Gas for electronic industry—Trifluoromethane

GB/T 18867-2002 电子工业用气体 六氟化硫

本标准规定了电子工业用气体六氟化硫产品的技术要求、分析方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于硫与氟反应生成并经精制和纯化制备的高纯度六氟化硫。该产品主要用作等离子蚀刻剂、掺杂剂、电子元器件的外延气或稀释载气等

Gases for electronic industry--Sulfur hexafluoride

GB/T 18867-2014 电子工业用气体 六氟化硫

本标准规定了六氟化硫的技术要求、试验方法、标志、包装、贮存及安全等。 本标准适用于硫与氟直接反应并经精制和纯化制备的六氟化硫”该产品主要用作电子工业中化学气相沉积室的清洗剂和等离子蚀刻剂等。 分子式=SFs”相对分子质量j4皂O跚4192〔按2007 年国际相对原子质量计算

Gases for electronic industry.Sulphur hexaflouride

GB/T 31058-2014 电子工业用气体 四氟化硅

本标准规定了四氟化硅的技术要求、试验方法、标志、包装、运输和贮存等内容。本标准适用于萤石硫酸法、六氟硅酸盐热分解法、单质硅直接氟化法制备的四氟化硅。它主要用作电子工业中等离子蚀刻、发光二极管P形掺杂、离子注入工艺、外延沉积扩散的硅源和光导纤维用高纯石英玻璃的原料,也是生产多晶硅的重要原料。分子式

Gases for electronic industry.Silicon tetrafluoride

GB/T 32386-2015 电子工业用气体 六氟化钨

本标准规定了六氟化钨的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运和安全。 本标准适用于化学合成法制取并经精制纯化的六氟化钨。该产品主要用于电子工业中金属钨化学气相沉积工艺、钨材料的制备等。 分子式：WF₆。 分子量：297.830 419 2(按2009年国际相对原子质量计算

Gases for electronic industry.Tungsten hexaflouride

GB/T 39708-2020 三氟化硼

本文件规定了三氟化硼的技术要求.试验方法.检验规则标志、包装.运输和贮存。 本文件适用于以硼酸、氟化氢和发烟硫酸(或三氧化硫)为主要原料制得的三氟化硼。 本文件不适用于半导体制造用的三氟化硼

Boron trifluoride

GB/T 17874-2021 电子特气 三氯化硼

本文件规定了电子级三氯化硼的技术要求、检验规则、试验方法、标志、包装、运输、贮存及安全信息的要求。 本文件适用于以粗制三氯化硼为原料提纯制得的电子级三氯化硼

Electronic specialty gas—Boron trichloride

GB/T 31986-2015 电子工业用气体 八氟丙烷

本标准规定了八氟丙烷的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运和安全。 本标准适用于六氟丙烯或七氟丙烷氟化制备，并通过精馏、吸附、催化等工艺提纯的八氟丙烷产品，以及碳和氟直接反应法合成的八氟丙烷产品。它在电子工业等离子蚀刻工艺中作为蚀刻气体或清洗气体。 分子式：C₃F₈。 相对分子

Gas for electronic industry.Perfluoropropane

T/ZSM 0004-2022 工业用三氯化硼

“技术要求”章规定了三氯化硼纯度、氯气含量、四氯化硅含量、碳酰氯含量、氯化氢含量的技术要求。 “试验方法”章结合工业用三氯化硼的检测实际，规定了三氯化硼的计算公式、以及氯气、四氯化硅、碳酰氯、氯化氢的测定方法。 “检验规则”章规定了工业用三氯化硼产品的检验项目、组批、采样、检验判定以及尾气处理的

Boron trichloride used for industry

GB/T 34091-2017 电子工业用气体 六氟乙烷

Gas for electronic industry—Hexafluoroethane