GB/T 21287-2007 电子工业用气体.三氟化氮
本标准规定了瓶装电子工业用气体——三氟化氮的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输、储存和安全。 本标准适用于电子工业用三氟化氮。它主要用作电子工业中等离子体工艺等离子体刻蚀剂和化学气相沉积的清洗剂。 分子式：NF3。 分子量：71.001 9（按2001年国际相对原子量
Gases for electronic industry.Nitrogen trifluoride
GB/T 14603-2009 电子工业用气体.三氟化硼
本标准规定了电子工业用三氟化硼的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于以氟气和硼单质 为原料，采用直接化合的方法制得并经过纯化制取的三氟化硼；和以氟硼酸钠为原料热分解法制得并经过纯化制取的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂
Gases for electronic industry.Boron trifluoride
GB/T 14603-1993 电子工业用气体 三氟化硼
本标准规定了三氟化硼产品的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以氟硼酸钠为原料，采用热分解法制得的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂。 分子式：BF3 相对分子质量：67.805（按1989年国际相对原子质量
Gases for electronic industry. Boron trifluoride
GB/T 21287-2021 电子特气 三氟化氮
本文件规定了电子级三氟化氮的技术要求、检验规则、试验方法、标志、包装、运输贮存及安全信息的要求。 本文件适用于以水氟化氢与液氨为原料制备提纯,或以氟化氢铵为原料制备提纯得到的三氟化氮
Electronic specialty gas—Nitrogen trifluoride
CGA G-14-2010 三氟化氮
Because of its widespread use and its potential for mishandling, this publication has been written and is intended for the suppliers, distributors
Nitrogen trifluoride
T/CCGA 30003-2019 超纯三氟化氮
本标准规定了瓶装超纯三氟化氮的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输、储存和安全。 本标准适用于电解合成粗品三氟化氮，通过精馏提纯生产的超纯三氟化氮。它主要用作电子工业中等离子体工艺蚀刻剂和化学气相沉积的清洗剂
Ultra pure nitrogen trifluoride
GB/T 34085-2017 电子工业用气体 三氟甲烷
Gas for electronic industry—Trifluoromethane
AIR FORCE MIL-P-87896 ADMIN NOTICE 2-2005 三氟化氮推进剂
The activities listed above were interested in this document as of the date of this document. Since organizations and responsibilities can change, you
PROPELLANT, NITROGEN TRIFLUORIDE
AIR FORCE MIL-P-87896 (1)-1987 三氟化氮推进剂
This amendment forms a part of Military Specification MIL-P-87896, dated 4 October 1982, and is approved for use by-all Departments and Agencies
PROPELLANT, NITROGEN TRIFLUORIDE
AIR FORCE MIL-P-87896-1982 三氟化氮推进剂
This specification covers the requirements for nitrogen trifluoride (NF3
PROPELLANT, NITROGEN TRIFLUORIDE
AIR FORCE MIL-PRF-87896 A-2011 三氟化氮推进剂
PROPELLANT, NITROGEN TRIFLUORIDE
GB/T 14600-1993 电子工业用气体 氧化亚氮
本标准规定了电子工业用气体--瓶装氧化亚氮的技术要求、试验方法、验收规则及包装、标志、贮存与运输要求。 本标准适用于硝酸铵热分解工艺制取的氧化亚氮。该产品主要用于电子工业中二氧化硅的化学气相淀积、等离子工艺。 分子式：N2O 相对分子质量：44.01（按1989年国际相对
Gases for electronic industry. Nitrous oxide
GB/T 14600-2009 电子工业用气体.氧化亚氮
本标准规定了氧化亚氮的技术要求，试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于电子工业中化学气相淀积工艺
Gas for electronic industry.Nitrous Oxide
T/DLSHXH 002-2018 电子工业用气体 一氧化氮
本标准规定了电子工业用气体一氧化氮的技术要求、试验方法、检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于电子工业用气体一氧化氮
Gas for electronic industry—Nitric oxide
GB/T 18867-2002 电子工业用气体 六氟化硫
本标准规定了电子工业用气体六氟化硫产品的技术要求、分析方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于硫与氟反应生成并经精制和纯化制备的高纯度六氟化硫。该产品主要用作等离子蚀刻剂、掺杂剂、电子元器件的外延气或稀释载气等
Gases for electronic industry--Sulfur hexafluoride
GB/T 21287-2007 电子工业用气体.三氟化氮
本标准规定了瓶装电子工业用气体——三氟化氮的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输、储存和安全。 本标准适用于电子工业用三氟化氮。它主要用作电子工业中等离子体工艺等离子体刻蚀剂和化学气相沉积的清洗剂。 分子式：NF3。 分子量：71.001 9（按2001年国际相对原子量
Gases for electronic industry.Nitrogen trifluoride
GB/T 14603-2009 电子工业用气体.三氟化硼
本标准规定了电子工业用三氟化硼的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于以氟气和硼单质 为原料，采用直接化合的方法制得并经过纯化制取的三氟化硼；和以氟硼酸钠为原料热分解法制得并经过纯化制取的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂
Gases for electronic industry.Boron trifluoride
GB/T 14603-1993 电子工业用气体 三氟化硼
本标准规定了三氟化硼产品的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以氟硼酸钠为原料，采用热分解法制得的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂。 分子式：BF3 相对分子质量：67.805（按1989年国际相对原子质量
Gases for electronic industry. Boron trifluoride
GB/T 21287-2021 电子特气 三氟化氮
本文件规定了电子级三氟化氮的技术要求、检验规则、试验方法、标志、包装、运输贮存及安全信息的要求。 本文件适用于以水氟化氢与液氨为原料制备提纯,或以氟化氢铵为原料制备提纯得到的三氟化氮
Electronic specialty gas—Nitrogen trifluoride
CGA G-14-2010 三氟化氮
Because of its widespread use and its potential for mishandling, this publication has been written and is intended for the suppliers, distributors
Nitrogen trifluoride
T/CCGA 30003-2019 超纯三氟化氮
本标准规定了瓶装超纯三氟化氮的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输、储存和安全。 本标准适用于电解合成粗品三氟化氮，通过精馏提纯生产的超纯三氟化氮。它主要用作电子工业中等离子体工艺蚀刻剂和化学气相沉积的清洗剂
Ultra pure nitrogen trifluoride
GB/T 34085-2017 电子工业用气体 三氟甲烷
Gas for electronic industry—Trifluoromethane
AIR FORCE MIL-P-87896 ADMIN NOTICE 2-2005 三氟化氮推进剂
The activities listed above were interested in this document as of the date of this document. Since organizations and responsibilities can change, you
PROPELLANT, NITROGEN TRIFLUORIDE
AIR FORCE MIL-P-87896 (1)-1987 三氟化氮推进剂
This amendment forms a part of Military Specification MIL-P-87896, dated 4 October 1982, and is approved for use by-all Departments and Agencies
PROPELLANT, NITROGEN TRIFLUORIDE
AIR FORCE MIL-P-87896-1982 三氟化氮推进剂
This specification covers the requirements for nitrogen trifluoride (NF3
PROPELLANT, NITROGEN TRIFLUORIDE
AIR FORCE MIL-PRF-87896 A-2011 三氟化氮推进剂
PROPELLANT, NITROGEN TRIFLUORIDE
GB/T 14600-1993 电子工业用气体 氧化亚氮
本标准规定了电子工业用气体--瓶装氧化亚氮的技术要求、试验方法、验收规则及包装、标志、贮存与运输要求。 本标准适用于硝酸铵热分解工艺制取的氧化亚氮。该产品主要用于电子工业中二氧化硅的化学气相淀积、等离子工艺。 分子式：N2O 相对分子质量：44.01（按1989年国际相对
Gases for electronic industry. Nitrous oxide
GB/T 14600-2009 电子工业用气体.氧化亚氮
本标准规定了氧化亚氮的技术要求，试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于电子工业中化学气相淀积工艺
Gas for electronic industry.Nitrous Oxide
T/DLSHXH 002-2018 电子工业用气体 一氧化氮
本标准规定了电子工业用气体一氧化氮的技术要求、试验方法、检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于电子工业用气体一氧化氮
Gas for electronic industry—Nitric oxide
GB/T 18867-2002 电子工业用气体 六氟化硫
本标准规定了电子工业用气体六氟化硫产品的技术要求、分析方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于硫与氟反应生成并经精制和纯化制备的高纯度六氟化硫。该产品主要用作等离子蚀刻剂、掺杂剂、电子元器件的外延气或稀释载气等
Gases for electronic industry--Sulfur hexafluoride
编辑：北检院编辑部
