发布时间:2024-05-27 17:49:26 - 更新时间:2024年06月29日 15:22
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High purity nickel
本标准规定了高纯镍(5N和6N)的要求、检验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存、质量证明书和合同(或订货单)内容。 本标准适用于微电子工业溅射靶材及离子镀膜、蒸发镀膜、制造高纯试剂、标样和高级合金用途的高纯镍
High purity nickel
本文件适用于半导体溅射靶材、蒸发料等所需的高纯镍铸锭
本标准规定了高纯镍中杂质元素的测定方法,测定元素见表1。本标准适用于高纯镍中杂质元素含量的测定,各元素质量分数测定范围为0.1 μg/kg~20 000 μg/kg
Methods for chemical analysis of high purity nickel.Determination of trace impurity elements content.Glow discharge mass spectrometry
Cadmium high purity. Method of spectrographic determination of iron, copper, nickel, tin and lead
Cadmium high purity. Method of spectrographic of aluminium, bismuth, iron, indium, cobalt, copper, manganeze, arsenic, nickel, tin, lead, antimony and silver
本方法规定了纯度w(Sb)≥99.999%高纯锑中镁、锌、镍、铜、银、镉、铁、硫、砷、金、锰、铅、铋、硅、硒含量的测定方法。本方法适用于纯度W(Sb)≥99.999%高纯锑中镁、锌、镍、铜、银、镉、铁、硫、砷、金、锰、铅、铋、硅、硒含量的测定。各元素测定范围为1.0X10-7%~1.5×10
Method for chemical analysis of high purity antimony.Determination of magnesium,zinc,nickel,copper,silver,cadium,iron,sulfur,arsenic,gold,manganese,lead,bismuth,silicon,selenium.High-mass resolution glow discharge mass spectrometry
本标准规定了高纯镓的产品分类、技术要求、试验方法、检验规则和包装运输等。 本标准适用于以纯度不小于99.99%的工业镓为原料,经电解精炼等制得的纯度不小于99.9999%的镓;再以此为原料,经拉制单晶或其他提纯工艺等制得的纯度不小于99.99999%的镓。产品供制备化合物半导体材料和高
High purity gallium
本标准规定了高纯镓的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单。 本部分适用于以纯度不小于99.99%工业镓为原料,经电解精炼、拉制单晶或其他提纯工艺制得的纯度不小于99.9999%的镓。产品制备化合物半导体材料和高纯合金
High purity gallium
Zpracovatel: Lachema, n. p., Brno, závod J. Fu?íka, Kaznějov B. Miro?ovská Oborové normaliza?ní st?edisko: Lachema, n. p., Brno — Ing. H. ?i
Nickel nitráte pure
YS/T 981的本部分规定了 99.999%~99.999 9%高纯铟中镁、铝、铁、镍、铜、锌、银、镉、锡、铅元素含量的测定方法。本部分适用于高纯铟中镁、铝、铁、镍、铜、锌、银、镉、锡、铅含量的测定。各元素的测定范围见表1
Methods for chemical analysis of high purity indium.Determination of magnesium,aluminum,iron,nickel,copper,zinc,silver,cadmium,tin and lead.Inductively coupled plasma mass spectrometry
本标准规定了纯氢、高纯氢、超纯氢的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、贮存及运输和安全要求。 本标准适用于以工业氢为原料经吸附法、扩散法以及其他方法净化制取的瓶装或管道输送的氢气, 主要用于电子工业、石油化工、金属冶炼、国防尖端技术和科学研究等部门
Pure hydrogen, high pruity hydrogen and ultra pure hydrogen
High purity nickel
本标准规定了高纯镍(5N和6N)的要求、检验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存、质量证明书和合同(或订货单)内容。 本标准适用于微电子工业溅射靶材及离子镀膜、蒸发镀膜、制造高纯试剂、标样和高级合金用途的高纯镍
High purity nickel
本文件适用于半导体溅射靶材、蒸发料等所需的高纯镍铸锭
本标准规定了高纯镍中杂质元素的测定方法,测定元素见表1。本标准适用于高纯镍中杂质元素含量的测定,各元素质量分数测定范围为0.1 μg/kg~20 000 μg/kg
Methods for chemical analysis of high purity nickel.Determination of trace impurity elements content.Glow discharge mass spectrometry
Cadmium high purity. Method of spectrographic determination of iron, copper, nickel, tin and lead
Cadmium high purity. Method of spectrographic of aluminium, bismuth, iron, indium, cobalt, copper, manganeze, arsenic, nickel, tin, lead, antimony and silver
本方法规定了纯度w(Sb)≥99.999%高纯锑中镁、锌、镍、铜、银、镉、铁、硫、砷、金、锰、铅、铋、硅、硒含量的测定方法。本方法适用于纯度W(Sb)≥99.999%高纯锑中镁、锌、镍、铜、银、镉、铁、硫、砷、金、锰、铅、铋、硅、硒含量的测定。各元素测定范围为1.0X10-7%~1.5×10
Method for chemical analysis of high purity antimony.Determination of magnesium,zinc,nickel,copper,silver,cadium,iron,sulfur,arsenic,gold,manganese,lead,bismuth,silicon,selenium.High-mass resolution glow discharge mass spectrometry
本标准规定了高纯镓的产品分类、技术要求、试验方法、检验规则和包装运输等。 本标准适用于以纯度不小于99.99%的工业镓为原料,经电解精炼等制得的纯度不小于99.9999%的镓;再以此为原料,经拉制单晶或其他提纯工艺等制得的纯度不小于99.99999%的镓。产品供制备化合物半导体材料和高
High purity gallium
本标准规定了高纯镓的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单。 本部分适用于以纯度不小于99.99%工业镓为原料,经电解精炼、拉制单晶或其他提纯工艺制得的纯度不小于99.9999%的镓。产品制备化合物半导体材料和高纯合金
High purity gallium
Zpracovatel: Lachema, n. p., Brno, závod J. Fu?íka, Kaznějov B. Miro?ovská Oborové normaliza?ní st?edisko: Lachema, n. p., Brno — Ing. H. ?i
Nickel nitráte pure
YS/T 981的本部分规定了 99.999%~99.999 9%高纯铟中镁、铝、铁、镍、铜、锌、银、镉、锡、铅元素含量的测定方法。本部分适用于高纯铟中镁、铝、铁、镍、铜、锌、银、镉、锡、铅含量的测定。各元素的测定范围见表1
Methods for chemical analysis of high purity indium.Determination of magnesium,aluminum,iron,nickel,copper,zinc,silver,cadmium,tin and lead.Inductively coupled plasma mass spectrometry
本标准规定了纯氢、高纯氢、超纯氢的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、贮存及运输和安全要求。 本标准适用于以工业氢为原料经吸附法、扩散法以及其他方法净化制取的瓶装或管道输送的氢气, 主要用于电子工业、石油化工、金属冶炼、国防尖端技术和科学研究等部门
Pure hydrogen, high pruity hydrogen and ultra pure hydrogen